LEdit繪制版圖課件

版圖的相關(guān)知識（二）2023/3/14L-Edit的使用方法

L-Edit是TannerToolsPro工具軟件中的一個軟件包，可以在同一窗口中進行版圖設(shè)計、設(shè)計規(guī)則檢查、網(wǎng)表提取、標準單元自動布局與連線等工作。配合在S-Edit中建立的相應(yīng)電路，可以在TannerToolsPro提供的另一個工具LVS完成布局與電路的比對。在本章中將介紹L-Edit的使用與版圖設(shè)計及網(wǎng)表提取。2023/3/1410.1L-Edit的窗口介紹

圖3.1為L-Edit的窗口，包括標題欄、工具欄、位置顯示區(qū)、鼠標功能說明、狀態(tài)欄、繪圖區(qū)等項目。還有層的定義區(qū)，用以定義現(xiàn)在要進行繪制和編輯的層。2023/3/143.2L-Edit的參數(shù)設(shè)置在進行版圖設(shè)計之前，首先要設(shè)定設(shè)計文件的數(shù)據(jù)，如調(diào)色板、應(yīng)用、設(shè)計、圖層、特殊圖層、設(shè)計規(guī)則檢查、標準單元庫自動布局與連線。2023/3/141．調(diào)色板設(shè)置執(zhí)行SetupPalette子命令彈出調(diào)色板設(shè)置框，如圖3.4所示。L-Edit的色盤共有16種顏色設(shè)定，每個顏色各有兩種屬性：（1）一個唯一的4位碼；（2）RGB三種顏色的組合量。2023/3/14圖3.4調(diào)色板2023/3/14（2）“General”標簽頁：提供使用者針對以下事項進行設(shè)定。①EditingOptions（編輯選項）欄：共有4個選項，選中“Active-PushRubberbanding”選項表示在畫圓形、方形時不必一直按著鼠標的按鈕，只要定義端點即可。例如，若要畫一個方形，先用鼠標左健定義方形的某一個角落，再移到鼠標方形的對角位置，然后再單擊鼠標左鍵，就可以完成方形的繪制。2023/3/14“PasteToCursor”選項表示將剪貼板上的圖形粘貼到鼠標指針上，選中該選項后，在粘貼對象時，被復制的對象會跟隨光標指針出現(xiàn)在繪圖區(qū)，并隨光標一起移動，點擊鼠標的任何鍵時，被復制的對象固定到繪圖區(qū)。在粘貼到繪圖區(qū)之前，還可以對該對象進行水平（H）、垂直（V）鏡像與旋轉(zhuǎn)（R）操作；“Auto-Panning”選項用于自動平移窗口，選中該選項后，在執(zhí)行Draw（繪圖）、Move（移動）或Edit（編輯）操作時，當鼠標指針碰到繪圖窗口邊緣時，L-Edit將自動平移窗口。2023/3/14圖3.5應(yīng)用設(shè)置對話框2023/3/14（2）“Keyboard”標簽頁用來設(shè)定鍵盤上的熱鍵，包括布局與文字編輯器?？梢砸暿褂谜呤褂昧晳T刪除或是增加熱鍵內(nèi)容。（3）“Warnings”標簽頁是警告框的列表。選中某個警告框前的復選框?qū)⑹顾せ睿诰庉嬙O(shè)計文件時發(fā)生違反規(guī)則的情況下該警告框會打開；若警告框不激活，將不會打開。（4）“UPI”（用戶編程界面）標簽頁設(shè)置L-Edit用來解釋宏的頭文件所在目錄，以及UPI寫宏錯誤的記錄文件的路徑。（5）“Rendering”標簽頁用于建立基本的顯示行為。2023/3/143．設(shè)計參數(shù)設(shè)置在版圖設(shè)計之前必須對有關(guān)參數(shù)進行設(shè)置。執(zhí)行Setup/Design子命令，進入設(shè)置參數(shù)對話框，如圖3.6所示，共有6個標簽頁。（1）“Technology（工藝參數(shù)）”標簽頁圖3.6工藝參數(shù)設(shè)置標簽頁①“Technologyname”（工藝名稱）欄：填寫設(shè)計所用的工藝名稱。當要從一個文件拷貝一個單元到另一個文件時，L-Edit將比較兩個文件所用的工藝是否相同。如果工藝不同，L-Edit將顯示警告信息。2023/3/14圖3.6工藝參數(shù)設(shè)置標簽頁2023/3/14（2）“Grid（柵格設(shè)置）”標簽頁為方便繪圖、查看和編輯，L-Edit提供了三種獨立的柵格坐標：顯示柵格、鼠標柵格和定位柵格，如圖3.7所示。“Griddisplay”欄用于定義顯示柵格。其中“Displayedgrid”填充框用于設(shè)定柵格的格點間距，單位是定位單位；“Suppressminorgrid”填充框用于設(shè)定柵格格點顯示的最小像素，小于或等于該值時，格點將不顯示。“Mousegrid”欄用于設(shè)置鼠標柵格。選中“Snaping”選項表示鼠標指針只能在柵格上移動；選中“Smooth”選項表示鼠標指針可在柵格間移動；“Mousesnap”填充框用于設(shè)定鼠標每移動一步的距離，單位是定位單位。2023/3/14圖3.7柵格參數(shù)設(shè)置標簽頁2023/3/14（3）“Selection（選擇參數(shù)）”標簽頁用于選擇對象時的有關(guān)設(shè)定，包括選擇區(qū)域、棄選區(qū)域、編輯范圍、選擇繪圖對象，如圖3.8所示。“Selectionrange”欄用于設(shè)定選擇范圍，單位為定位單位。當鼠標指針在對象外面且距對象邊緣不超過框內(nèi)規(guī)定的值，該對象仍能選中?！癉eslectionrange”欄用于設(shè)置棄選范圍。在進行移動、編輯或復制操作時，當鼠標指針與選中的對象的距離大于該設(shè)定值時，單擊鼠標的MOVE-EDIT鍵，選中的對象將去選。“Editrange”欄用于決定編輯范圍，兩填充框的單位不同。當鼠標指針離對象的邊或頂點的距離在該范圍內(nèi)時，點擊MOVE-EDIT按鈕將執(zhí)行Edit操作，否則執(zhí)行Move操作。選中“Selectdrawnobjects”選項表示對象在創(chuàng)建后將自動被選中，這樣對該對象可立即進行編輯操作。2023/3/14（4）“Drawing”標簽頁用于繪圖參數(shù)的設(shè)置，設(shè)置窗口如圖3.9所示。

“Defaultporttextsize”欄用于設(shè)置端口默認文字尺寸，單位是定位單位。2023/3/14“Nudgeamount”欄用于設(shè)置命令Draw/Nudge中微移量?！癉efaultrulersettings”欄用于設(shè)置標尺的文字大小（Text）、顯示方式（Display）、端點形狀（End）、刻度線顯示方式（Showtickmarks）?！癈reateruleson”欄用于設(shè)置標尺放置的位置。選中“Currentlayer”選項表示將標尺放于當前圖層上，也可通過圖層選擇框中的下拉列表，選取放置標尺的圖層。2023/3/144．圖層設(shè)置圖層部分的設(shè)置包括有那些圖層、圖層的名稱、對象的電阻電容值、GDSⅡ的代號、CIF的名稱、圖樣等數(shù)據(jù)。執(zhí)行Setup/Layers子命令進入圖層設(shè)置對話框，如圖3.10所示。對話框左邊的圖層列表框列出了當前文件的圖層，與圖層定義區(qū)的次序是一致的。也可建立新的圖層（AddLayer）、刪除原有的圖層（DeleteLayer）和重新命名圖層（RemaneLayer），還可安排各圖層的先后順序(MoveLayer)。在窗口的右邊可以用來定義或是更改圖層的名稱，與各圖層的電氣特性、布局方式、生成層的方式、圖樣等。若要修改某層的參數(shù)時，只要選中右邊列表框的某層，再修改右邊各標簽頁的數(shù)據(jù)即可。2023/3/143.3文件與單元在L-Edit中，設(shè)計是以TDB文件形式存在和保存。TDB文件可以是版圖文件，也可以是文本文件。TDB文件由至少一個單元或多個單元組成。對于版圖文件，這些單元是以等級構(gòu)造關(guān)系相互聯(lián)系在一起。有些單元只包含幾何圖形對象，稱為基本單元，它們是獨立的單元；另一些單元則既可以包括幾何圖形，還可以包含例化體。例化體是指在某個單元內(nèi)對其他單元的引用，就象調(diào)用子程序。這樣在版圖設(shè)計時就不必重復繪制相同的版圖結(jié)構(gòu)，提高設(shè)計效率，同時還極大地減少了設(shè)計所占的存儲容量。2023/3/14TDB版圖設(shè)計文件的格式是Tanner公司專有的，為了能與其他設(shè)計系統(tǒng)以及掩模制造商進行交流，還必須把TDB格式轉(zhuǎn)換成通用的CIF或GDSII格式，或把CIF和GDSII格式文件輸入，轉(zhuǎn)換為TDB格式。2023/3/142.打開設(shè)計文件執(zhí)行子命令打開原有的文件。可以指定打開的文件為只讀文件。3.關(guān)閉設(shè)計文件執(zhí)行子命令關(guān)閉編輯中的文件。4.文件保存執(zhí)行File/Save或是File/SaveAs子命令都可以保存設(shè)計文件，前者直接用現(xiàn)在的文件名保存，如果尚未給定文件名保存過，L-Edit會要求給定文件名稱；后者會要求給定一個新的文件名稱加以保存。2023/3/145.文件輸入L-Edit提供文件格式轉(zhuǎn)換的接口，可以在GDSⅡ／CIF與TDB文件間互相轉(zhuǎn)換。要將GDSⅡ／CIF文件導入到L-Edit，執(zhí)行File/ImPortMaskData子命令輸入掩模數(shù)據(jù)對話框，如圖3.15所示。2023/3/14圖3.15文件輸入2023/3/14首先在MaskData子菜單中選擇GDSⅡ或CIF，然后再在“FromFile”欄內(nèi)給定輸入掩模文件的路徑和名稱。L-Edit文件包括了環(huán)境設(shè)定與制造相關(guān)數(shù)據(jù)，而GDSⅡ與CIF格式的文件并不會包含這些數(shù)據(jù)，所以需要給定相關(guān)的TDB文件，以作為轉(zhuǎn)入文件的設(shè)定數(shù)據(jù)，因此需在“Usesetupfile”欄內(nèi)輸入TDB文件的路徑和名稱。最后按下Import按鈕即可將GDSⅡ／CIF文件導入到Tanner的L-Edit上。在導入的過程中可能會出現(xiàn)GDSⅡ/CIF文件中有TDB設(shè)定文件中沒有定義的層次，這時可以指定L-Edit自動產(chǎn)生新的層次給這些未知的物質(zhì)層次。6.文件輸出L-Edit提供GDSⅡ與CIF格式文件的輸出，執(zhí)行File/ExportMaskData子命令打開輸出掩模數(shù)據(jù)對話框，如圖3.16所示。圖3.16文件輸出

文件輸出之前先確定輸出文件的格式GDSⅡ／CIF，再指定文件的路徑和名稱，然后按Export按鈕。2023/3/14圖3.16文件輸出2023/3/143.3.2單元單元是集成電路設(shè)計最基本的區(qū)塊，它包括基本的幾何對象(各種形狀的圖形)與例化體（Instance）。1.建立新的單元

執(zhí)行Cell/New子命令彈出新建單元對話框，如圖3.17所示。依對話框要求輸入新單元的名稱、作者、機構(gòu)名稱與單元的相關(guān)信息。選中“Openinnewwindow”選項表示新單元將在新窗口中打開，否則新單元在當前窗口打開，窗口中已打開的窗口被關(guān)閉。然后點擊OK按鈕新單元被創(chuàng)建。2023/3/14圖3.17新建單元對話框2023/3/142.打開單元圖

打開已經(jīng)存在的單元，執(zhí)行Cell/Open子命令彈出打開已有單元對話框，如圖3.18所示。先在“File”框的下拉列表中選擇要打開的單元所在的文件，再從下方的單元列表中選擇所要打開的單元，也可以從“Cell”框中輸入所要打開的單元名稱，此時L-Edit會依據(jù)輸入的字符逐一比對符合要求的單元名稱，并且將它顯示在第一列。例如，輸入i時，所有單元名稱第一個字符為i的會依序顯示在單元列表中，再輸入n后，所有單元名稱前面兩個字符為in的會顯示在單元列表中。在單元列表中，單元名稱若是以粗體字表示者，表示該單元已經(jīng)被更改了，但是尚未保存。另外，若使打開單元顯示在新的窗口中，則需選中“OpenInNewWindow”選項；否則會顯示在之前的窗口。2023/3/14圖3.18打開已有單元對話框2023/3/143.單元的重新命名正在編輯中的單元可以執(zhí)行Cell/Rename或是Cell/CloseAs子命令進行名稱更改。執(zhí)行Cell/Rename子命令彈出重新命名單元對話窗口，如圖3.19所示，只要給定新的單元名稱和相關(guān)信息，然后單擊OK按鈕即可，L-Edit會將當前的單元以新的名稱取代，而該單元仍處于編輯的狀態(tài)。若是使用Cell/CloseAs子命令，L-Edit會將更改過的單元以新的名稱保存，并且關(guān)閉原先的單元而不做任何保存動作，最后L-Edit打開的窗口中是新名稱的單元。2023/3/14圖3.19單元重新命名對話框2023/3/144.單元信息的獲取執(zhí)行Cell/Info子命令打開單元信息對話框，在對話框中，將顯示單元的名稱，可添加或修改作者、機構(gòu)和信息等內(nèi)容，還可進行版本號的修改、單元鎖定、屬性設(shè)置。5.制造單元的指定在把TDB版圖數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變?yōu)镃IF掩模數(shù)據(jù)時，需指定制造哪個單元的版圖。被指定的單元稱為制造單元。執(zhí)行Cell/Fabricate子命令打開SelectCelltoFabricate對話框。在File下拉列表中選取已打開的文件，在下方的列表中選取單元或在Cell欄中輸入要制造的單元名稱，然后單擊OK按鈕即可。被選為制造單元的單元名稱前用“f

”來標識。對于GDSII文件，將自動選用頂層單元作為制造版圖的單元，所以不需要指定制造單元。CIF文件不表明那個單元是頂層單元。如不指定制造單元，它會任意選一個單元作為制造單元，從而造成錯誤。2023/3/146.單元的復制單元可以在同一個設(shè)計文件中或是不同的設(shè)計文件中進行復制，如果要復制其他的設(shè)計文件中的單元，要先打開該設(shè)計文件。進行復制時會將原來的單元全部復制到目的設(shè)計文件中，如果單元的源文件與目的文件中有相同名稱的單元，就會造成名稱沖突現(xiàn)象，這時L-Edit會要求使用者進行更名或是停止復制操作。執(zhí)行Cell/Copy子命令彈出單元復制對話框，如圖3.20所示。首先在“File”欄中選擇被復制的文件名稱，然后在下方的單元列表中選擇要復制的單元或從“Cell”欄中輸入要復制的單元名稱，再單擊OK按鈕，出現(xiàn)窗口之后再輸入單元名稱，如果單元來源是在不同的設(shè)計文件，要事先打開該文件，然后選擇該設(shè)計文件中的單元。2023/3/14圖3.20單元復制對話框2023/3/147.單元的恢復執(zhí)行Cell/RevertCell子命令可取消上次存儲命令以來對當前單元所作的一切修改。取消的修改不能用Undo命令來恢復。8.設(shè)計瀏覽器圖3.21設(shè)計瀏覽器窗口

設(shè)計瀏覽器（DesignNavigator）列出設(shè)計的等級構(gòu)造中的所有單元，包括例化體、交叉引用單元和制造單元的信息。執(zhí)行View/DesignNavigator子命令或單擊按鈕可打開設(shè)計瀏覽器窗口，如圖3.21所示。2023/3/14圖3.21設(shè)計瀏覽器窗口2023/3/14設(shè)計瀏覽器窗口中所顯示的設(shè)計文件中單元的層次結(jié)構(gòu)是一個樹狀的結(jié)構(gòu)，可以展開所有的分支關(guān)系，或收起所有的分支，也可以只顯示沒被調(diào)用使用的單元。在設(shè)計瀏覽器窗口剛打開時，等級樹處在完全收縮狀態(tài)，只顯示頂級單元，在名稱前有一帶“+”的小方塊，稱這些單元為基干單元。當?shù)燃墭涮幱谕耆归_狀態(tài)時，等級樹的每一枝干都代表一個被例化的單元，稱為枝干單元。如果某一單元包含例化體，被例化的單元名字將出現(xiàn)在下一級分支上。如果單元中有一個以上的同一單元的例化體，在等級樹枝干上的被理化的單元名字后面出現(xiàn)一個放在方括號內(nèi)的數(shù)字，表示例化體的數(shù)目。另外，單元的名稱若是用粗體字表示，表示該單元已經(jīng)經(jīng)過修改，但是尚未保存；單元名稱的前面若有個鑰匙形狀，則表示該單元被鎖住不能編輯?？梢酝ㄟ^這個瀏覽窗口對單元進行編輯操作。利用工具欄可以進行收縮、展開，創(chuàng)建和刪除單元；利用顯示模式的下拉選框選擇等級樹的顯示模式；利用快捷菜單可以對單元編輯。2023/3/14

3.3.3例化體和矩陣例化體（Instance）和矩陣都是L-Edit中的繪圖對象。例化體是一個單元被其他單元所引用，引用時只記錄例化體的位置和方位。矩陣有許多同一單元的例化體在垂直和水平方向按指定的距離排列而成。單個例化體相當于1×1矩陣。例化體類似于計算機語言的子程序，允許其他單元使用。只要這個例化體被更動了，所有含有這個例化體的單元也會跟著更動。另外，含有例化體的設(shè)計比把例化體“展平”的同樣設(shè)計占用較少的存儲容量。“展平”設(shè)計是指把設(shè)計中把等級構(gòu)造逐級展開，把所有例化體都還原成只含原始體（繪圖對象）的圖形結(jié)構(gòu)，從而使版圖的等級構(gòu)造由多級變?yōu)閱渭?。除此之外，引用例化體也會加快顯示的速度。2023/3/141.例化體的創(chuàng)建有兩種方法產(chǎn)生例化體的方法：（1）用設(shè)計瀏覽器創(chuàng)建例化體，把設(shè)計瀏覽器窗口中某單元拖放到同一文件另一單元的版圖窗口中，即產(chǎn)生該單元的一個例化體。注意：被例化的單元不能是包含例化體的源單元，也不能包含接受例化體的單元的例化體，因為不能遞歸例化。（2）執(zhí)行Cell/Instance子命令或單擊按鈕，打開單元例化對話框，如圖3.23所示。2023/3/14圖3.23單元例化對話框2023/3/14在“File”框的下拉列表中選取已打開的文件，再在其下方的單元列表中選擇單元或在“Cell”欄中輸入單元名，然后單擊OK按鈕即可。在對話框中的單元列表中，名稱前加有紅色“×”的單元不能被例化。用粗體字表示的單元名稱表明對該單元的修改還未保存。2023/3/14有兩種情況演員不能被例化：（1）單元不能例化本身，也不能例化包含有該單元的例化體的其他單元。即不能遞歸例化。（2）不允許例化不同工藝文件中單元。2023/3/142.例化體的圖形編輯例化體和矩陣與幾何圖形對象不同，不能改變例化體的大小和形狀，也不能切割和合并。作為一個整體例化體可以進行移動、旋轉(zhuǎn)操作。（1）可以用鼠標MOVE-EDIT鍵（鼠標中鍵）來移動選中的例化體。（2）用Draw/Rotate子命令和Draw/Flip子命令實現(xiàn)被選中的例化體的旋轉(zhuǎn)和翻轉(zhuǎn)操作。2023/3/143.例化體的原地編輯執(zhí)行原地編輯的步驟為：（1）選中要編輯的例化體；（2）執(zhí)行Edit/EditIn-Place/PushInto子命令或單擊按鈕或按PgDn熱鍵進入例化體。進入例化體后，就可像打開例化體所援引的單元一樣，對單元的內(nèi)容進行編輯。當編輯的對象是幾何圖形時，可按編輯普通幾何圖形的方法進行編輯。如果編輯的對象是例化體或矩陣，則需進入矩陣或例化體再進行編輯。（3）編輯完成后，可用Edit/EditIn-Place/PopOut命令或單擊按鈕或按PgUp熱鍵。而命令Edit/EditIn-Place/ViewTopCellEnd子命令則使當前單元的未知回到頂級單元。注意：如果例化體做了非90°的旋轉(zhuǎn)操作，就不能進行原地編輯。2023/3/143.4L-Edit中的對象繪制版圖設(shè)計的基本任務(wù)是繪制對象，繪圖對象包括幾何圖形、例化體、端口和標尺等。繪制的基本步驟是：選擇圖層、激活繪圖工具、進行繪制。

1．幾何圖形的繪制

L-Edit提供的幾何圖形繪圖工具包括：長方形（Box）、多邊形（Polygon）、線（Wire）、圓（Circle）、扇形（PieWedge）和環(huán)扇（Torus）等。這里介紹前三種圖形繪制，也是VLSI版圖設(shè)計中的基本工具。（1）長方形的繪制在工具欄中選中按鈕，在繪圖區(qū)單擊鼠標左健定義長方形的一個頂點，再按住鼠標拉到另外一個對角后放開，定義出對角的另一頂點。在繪圖的過程中，在狀態(tài)窗口會顯示出所繪制的方形的長寬與其面積，在繪圖工作區(qū)窗口中顯示所用的圖層與繪制的長方形。2023/3/14（2）多邊形的繪制L-Edit提供的多邊形繪制可分為：正交、45°角和任意角度三種。先選定多邊形繪圖工具按鈕，把鼠標指針放到繪圖區(qū)后，此時鼠標左鍵是DRAW鍵，中鍵是MOVE-EDIT鍵，右鍵是SELECT鍵。當單擊DRAW鍵（左鍵）后，鼠標的左鍵變?yōu)?，中鍵變?yōu)锽ACKUP鍵，右鍵變?yōu)镋ND鍵。這三個鍵的意義分別為定義多邊形的頂點、取消上一次頂點的定義、與結(jié)束多邊形的繪制。繪制時，先點擊左鍵（DRAW鍵）產(chǎn)生第一個頂點，移動鼠標到另一處，單擊左鍵（VERTEX鍵）產(chǎn)生第二個頂點，依次產(chǎn)生更多的頂點，如產(chǎn)生了位置不對的頂點，可用中鍵來刪除，點擊一次刪除上一步的頂點。點擊右鍵（END鍵）完成最后的頂點。在繪制的過程中，狀態(tài)窗口同樣會顯示多邊形所占區(qū)域的長寬與面積。2023/3/14

使用全90°角的多邊形繪制工具時，所定義出來的多邊形只允許90°角；使45°角的多邊形繪制工具時，除了90°角之外，還可以定義45角變化的多邊形；使用任意角度的多邊形繪制工具時，就沒有上述角度的限制。（3）連線的繪制在L-Edit中，連線的繪制也提供了三種工具，繪制的方法與多邊形繪制方法一樣，在此就不再贅述。2023/3/14圖3.26端口設(shè)置連線的寬度、端點和頂點外形由當前圖層的默認連線樣式?jīng)Q定。在圖層設(shè)置對話框的General標簽頁中設(shè)定。圖3.27端口設(shè)置對話框

線寬還可由繪圖工具的下拉框的Other項來設(shè)置，如圖3.26所示。2023/3/14圖3.26端口設(shè)置2023/3/14圖3.27端口設(shè)置對話框2023/3/142.端口的繪制端口有點、線和長方形端口。繪制端口時，先在繪圖工具條上選擇端口繪制按鈕，對于點端口只要單擊鼠標左鍵然后會彈出編輯對象對話框的Port頁，如圖3.27所示。對于長方形端口先單擊鼠標左鍵并按住左鍵拖動鼠標到下一點后放開，也會彈出圖3.27的對話框。在對話框中輸入端口的名稱和文字的尺寸，設(shè)定端口的尺寸、文字放置的位置和方向。單擊OK按鈕即可生成端口。2023/3/143.標尺的繪制除了上述的基本對象之外，為了量測對象的尺寸方便，L-Edit提供了標尺的功能，標尺的繪制只是為了布局過程中進行量測，實體的制造過程并不會使用。繪制標尺時，先在繪圖工具條上選擇標尺繪制按鈕。標尺也有正交、45°、任意角度標尺。先單擊鼠標左鍵并按住左鍵拖動鼠標到下一點后放開，標尺畫成。標尺的設(shè)置在執(zhí)行Setup/Design子命令后的繪圖參數(shù)頁中進行。清除標尺時，執(zhí)行Draw/ClearRuler…子命令，可以選擇將所有單元中的標尺清除掉，或是清除現(xiàn)在這個單元中的標尺。2023/3/143.5對象的編輯編輯對象就是對繪制的對象進行修改。有兩種編輯對象的方法：圖形編輯和文本編輯。圖形編輯是用鼠標來完成，文本編輯是通過對話框來實現(xiàn)的。3.5.1對象的選中和去選在對對象編輯之前，首先要選中或去選某個對象，以保證編輯操作只作用于選中的對象。在默認設(shè)置下，選中的對象被黑色的輪廓線包圍。L-Edit提供兩種選擇對象的方法：顯選(ExplicitSelection)與隱選(ImplicitSelect)。涉及選擇與去選的操作有以下幾種：（1）顯選：指在進行后繼操作前對于對象所作的選擇或去選操作。用SELECT鍵（鼠標右鍵）（2）隱選：指在對于對象進行操作的過程中自動選中對象。用MOVE-EDIT鍵（鼠標中鍵）。（3）添加：也叫擴展選擇。指在一組選中的對象中添加一個對象。用EXTENDSEL鍵（按下Shift后鼠標左/右鍵變成EXTENDSEL鍵）。（4）去除：指在一組選中的對象中去選一個對象。用DESELECT鍵（按下Alt，鼠標右鍵變成DESELECT鍵）。2023/3/141．顯選包含下面幾個技巧：按、拉、增加及循環(huán)。（1）按(ClickSelection)：在某對象旁單擊鼠標右鍵即可將該對象選中，原有選中的對象自動去選。如果按下選擇按鈕，單擊鼠標左鍵也能完成這一功能。（2）拉(DragSelection)：按下鼠標右鍵不放，然后拖動鼠標定義出矩形范圍，則矩形范圍的內(nèi)2023/3/14的對象將會被選中。如果按下選擇按鈕，用鼠標左鍵也能完成這一功能。（3）加(ExtendSelection)：將選擇的對象加到一組已選擇對象中，這時需要按住Shift鍵，單擊鼠標右鍵。（4）循環(huán)(CycleSelection)；當某個區(qū)域中的對象太多太靠近不容易區(qū)別所選的為何(非唯一選取)，持續(xù)按著鼠標的選擇鍵，L-Edit會按著某個次序來進行對象選擇，并且成一個循環(huán)，也就是持續(xù)按著鼠標的選擇健，L-Edit會一個一個地選擇鄰近的對象，并且一個一個地棄選選過的對象，當已經(jīng)選擇到最后一個對象時，下一次的選擇就回到第一次選擇的對象上。L-Edit排序的方法是：光標在對象內(nèi)的優(yōu)先，較靠近對象的優(yōu)先權(quán)較高，然后才是光標在對象外并且靠近對象較近的較優(yōu)先。2023/3/142.隱選在沒有對象被選擇的情況下，可以按下MOVE-EDIT鍵（鼠標中鍵）對光標附近的對象進行移動、編輯、復制操作。在對象進行移動之后，該對象就自動棄選了。2023/3/143.圖層選擇執(zhí)行Draw/PickLayer子命令或熱鍵A把當前圖層轉(zhuǎn)換到選中的對象所在的圖層。如果沒有選中的對象，當前圖層將轉(zhuǎn)換到離鼠標指針最近的對象所在的層。4.去選要從選擇的對象組中移除某些對象，使用Alt加上棄選功能鍵(Alt+鼠標右健)，若是選擇不到對象(選擇點的附近沒有對象存在)，就會自動將所有的對象棄選，要選擇或是棄選所有的對象，可以通過Edit/SelectAll(Ctrl+A)或是Edit/DeselectAll(Alt+A)命令實現(xiàn)。2023/3/14

3.5.2對象的圖形編輯和文本編輯對象的編輯有兩種方式：一個是文本編輯，另一種是圖形編輯。文本編輯事先要先選定編輯的對象是，再執(zhí)行Edit/EditObject（s）子命令打開對話窗口，依對話窗口填入更改的數(shù)據(jù)。圖形編輯是聯(lián)合鼠標鍵和鍵來完成的。2023/3/141.圖形編輯在圖形編輯中，可以改變對象的大小和形狀；進行擴展編輯；在多邊形和連線中添加頂點；以及對對象進行切割、合并和掏空等操作。（1）改變對象的大小和形狀對長方形、端口和多邊形是通過移動頂點或邊來改變對象的大小和形狀。圓的大小可以改變半徑來實現(xiàn)。至于連線，只可以調(diào)整它的頂點與長度。線寬須用文本編輯改變。在進行圖形編輯之前，先要選中對象。當鼠標指針離對象的邊或頂點的距離等于或小于編輯范圍時，按下MOVE-EDIT鍵（鼠標中鍵），拖動鼠標，將移動對象的邊或頂點。如鼠標指針離對象的邊或頂點的距離大于編輯距離時，執(zhí)行的將是移動操作。一次只能編輯一個對象，如有兩個以上的對象被選中，只執(zhí)行移動操作。編輯范圍在設(shè)計參數(shù)對話框中設(shè)置。2023/3/14（2）擴展由選擇對象的邊界，可以一次對多個方形、多邊形、線、與端口更改大小與形狀。首先使用SelectEdges(Ctrl+鼠標左健)按健選擇對象邊界，再加選另外的邊界對象(使用Shift+Ctrl+左鍵)，剔除已經(jīng)選擇的邊界對象(使用Alt+Ctrl+左鍵)。選定所要更改的邊界對象后，按下鼠標的MOVE-EDIT鍵，拖曳到所要更改的地方，不過這樣的只能往同一個方向更改。2023/3/14（3）添加頂點把鼠標指針放在任意角多邊形的邊上，按下Ctrl和MOVE-EDIT鍵，拖動鼠標，鼠標指針所在邊上的點將變?yōu)橐粋€新的頂點，并隨鼠標指針移動。（4）添加連線線段選中連線后，執(zhí)行Draw/AddWireSection子命令，進入AddSection模式。這時只要點擊連線部分，連線上就會插入一段在相同圖層的連線線段。2023/3/14（5）切割L-Edit允許對選擇的對象切成分開的對象，切割的方向包括水平與垂直兩種，其命令為Draw/Slice/Horizontal與Draw/Slice/Vertical。在執(zhí)行切割命令之后，在繪圖工作區(qū)中會出現(xiàn)水平或是垂直線(依剪切的命令)以標示所要剪切的位置，選定之后，該對象即一切為二。圓和標尺不能被切割。（6）合并執(zhí)行Draw/Merge命令可以將多個被選中的、互相重疊的、在同一圖層的長方形、45°與90°的多邊形、45°與90°的連線合并成一個對象。如果這些己選擇的對象沒有交集，合并的命令就失效。如果選擇的對象包含了不同圖層，合并的動作只會針對相同圖層有作用，也就是會依照各種圖層進行合并操作。2023/3/14（7）掏空掏空是在已繪制的集合對象中切去一部分。這個操作不能用在圓形、端口、任意角度的多邊形、任意角度的線。首先，先選中要掏空的對象，然后執(zhí)行Draw/Nibble子命令或單擊按鈕，再選擇繪圖工具按鈕繪制要掏空的圖形。完成操作后所繪圖形的區(qū)域被掏空。2.文本編輯文本編輯時，先選中要編輯的對象，執(zhí)行Edit/EditObject（s）子命令啟動編輯對象對話框，在對話框中修改相應(yīng)的參數(shù)。2023/3/143.5.3對象的移動對象的移動可以分為：圖形移動、遞增移動、數(shù)字移動與更改方向移動。這些移動可以是一個對象，也可以是一群對象的移動。（1）圖形移動先選擇所要移動的對象，使用鼠標的中間鍵(Move-Edit)即可拖曳對象到新的位置，如果已經(jīng)有對象在選擇的狀態(tài)下，則該對象就可以被移動；若是尚未有對象在選擇的狀態(tài)下，則鼠標附近的對象(隱選的方式)會被移動。（2）遞增移動使用表3.2中四個命令可以對己選擇的對象進行搬移，所移動的量是在Setup/Design子命令設(shè)計參數(shù)對話框中的Nudgeamount填充框中設(shè)置。2023/3/14表3.2遞增移動命令熱鍵表2023/3/14

（3）數(shù)字移動執(zhí)行Draw/MoveBy子命令會出現(xiàn)MoveBy對話框，在對話框中填入X和Y軸方向的移動量，單擊OK按鈕即可。（4）更改方向L-Edit提供三種更改方向的命令：旋轉(zhuǎn)(Draw/Rotate)、水平映像(Draw/Flip/Horizontal)、與垂直映像(Draw/Flip/Vertical)。這些對象方向的改變都是以對象幾何中心為轉(zhuǎn)軸，即使是多數(shù)個對象也是如此。2023/3/143.6視圖的操作

每個窗口顯示一個單元版圖的一部分。顯示在窗口中的版圖的子集稱為視圖。可以用平移（Panning）當前窗口的方法來顯示版圖中不同區(qū)域的視圖，也可以用縮放（Zooming）使在窗口中顯示版圖的較大或較小區(qū)域的視圖。在版圖繪制中，移動和編輯的任何階段都可以做平移和縮放操作。1.窗口的平移平移的命令共有9種，如表3.3所示，平移只移動窗口，而版圖是不動的。當窗口向一個方向移動，視圖中的對象將向相反的方向移動。2023/3/142023/3/142.窗口的縮放

L-Edit提供4種縮放的功能，可以借著放大縮小的功能來改變視圖。其功能如表3.4所示。2023/3/14畫版圖的步驟1.進入L-Edit2.建立新文件3.環(huán)境設(shè)定4.編輯元件5.繪制多種圖層形狀6.設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）7.修改對象8.設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）9.版圖提取2023/3/14用L-Edit畫PMOS版圖的步驟（1）打開L-Edit程序：L-Edit會自動將工作文件命名為Layout1.tdb并顯示在窗口的標題欄上，如圖3.35所示。（2）另存為新文件：選擇執(zhí)行As子命令，打開“另存為”對話框，在“保存在”下拉列表框中選擇存貯目錄，在“文件名”文本框中輸入新文件名稱，如Ex1。圖3.35L-Edit的標題欄2023/3/14（3）替換設(shè)置信息：用于將已有的設(shè)計文件的設(shè)定（如格點、圖層等）應(yīng)用于當前的文件中。選擇執(zhí)行Setup子命令打開對話框，單擊“FromFile”欄填充框的右側(cè)的Browser按鈕，選擇X:\Tanner\Ledit100\Samples\SPR\example1\lights.tdb文件，如圖3.36所示，單擊OK就將lights.tdb文件中的格點、圖層等設(shè)定應(yīng)用在當前文件中。2023/3/14圖3.36替換設(shè)置信息對話框2023/3/14圖3.36替換設(shè)置信息對話框

（4）編輯單元：L-Edit編輯方式是以單元（Cell）為單位而不是以文件（File）為單位的，每一個文件可有多個Cell，而每一個Cell可表示一種電路的版圖或說明，每次打開新文件時自動打開一個Cell并將之命名為Cell0，如圖3.37所示，其中編輯窗口中的十字為坐標原點。（5）設(shè)計環(huán)境設(shè)置：繪制版圖時必須要有確定的大小，因此在繪圖前首先要確定或設(shè)定坐標與實際長度的關(guān)系。選擇執(zhí)行Setup/Design子命令，彈出SetupDesign對話框，在Technology標簽頁中可設(shè)置工藝的名稱、單位等，本例以Lambda為單位，而Lambda與內(nèi)部單位（InternalUnit）的關(guān)系可在Technologysetup選項中進行設(shè)置，如圖3.38所示，設(shè)定1個Lambda為1000個InternalUnit，即設(shè)定1個Lambda等于1個Micron。2023/3/14圖3.37編輯單元Cell02023/3/14圖3.38工藝設(shè)定2023/3/14

Grid標簽頁用于顯示柵格、鼠標柵格和定位柵格的設(shè)置，如圖3.39所示。在“Griddisplay”欄內(nèi)設(shè)定1個顯示柵格點（Displayedgrid）等于1個坐標單位（Locatorunit），在“Suppressgridlessthan”框中設(shè)置8，表示當柵格小于8個像素時不顯示；在“Mousegrid”欄中，設(shè)定鼠標光標顯示（Cursortype）為Smooth類型，在“Mousesnapgrid”框中設(shè)定鼠標鎖定的柵格為0.5個坐標單位；在“Locatorunit”欄中設(shè)定1個坐標為1000個內(nèi)部單位。設(shè)定結(jié)果為1個柵格的距離等于1個坐標單位也等于1個Micron。2023/3/14圖3.39柵格的設(shè)定2023/3/14（6）圖層的設(shè)置：在Layers面板的下拉列表中選取圖層。PMOS版圖需要用到NWell、Active、NSelect、Pselect、Ploy、Matal1、Matal2、ActiveContact、Via等圖層。圖3.40設(shè)置設(shè)計規(guī)則對話框

（7）繪制NWell：在P型襯底上制作PMOS管，首先要制作NWell。而NWell的最小寬度必須滿足所選工藝規(guī)則。本例使用由軟件提供的MOSIS/ORBIT2.0U設(shè)計規(guī)則。查看NWell繪制要遵守的設(shè)計規(guī)則可選擇Tools/DRC命令，打開DesignRuleCheck對話框，單擊其中Setup按鈕會出現(xiàn)SetupDesignRule對話框（或單擊圖標），再從其中的Ruleslist列表框選擇1.1Well2023/3/14圖3.40設(shè)置設(shè)計規(guī)則對話框2023/3/14MinimumWidth選項，可知NWell的最小寬度有10個Lambda的要求，如圖3.40所示。圖6NWell設(shè)計規(guī)則在Layers面板的下拉列表中選取NWell選項，再從Drawing工具欄中選擇按鈕，在Cell0編輯窗口畫出橫向24格縱向15格的方形即為NWell，如圖3.41所示。2023/3/14圖3.41繪制NWell2023/3/14（8）截面觀察：L-Edit具有截面觀察功能，可以觀察該版圖設(shè)計流片后的斷面情況。選擇Tools/Cross-Section子命令（或單擊按鈕），打開GenerateCross-Section對話框，如圖3.42所示。圖3.42截面產(chǎn)生設(shè)置2023/3/14單擊對話框中的Brower按鈕，在彈出的對話框中選擇C:\Tanner\LEdit83\amples\SPR\example1\lights.xst文件，再單擊Pick按鈕在編輯畫面中選擇要觀察的位置，然后單擊OK按鈕，結(jié)果如圖3.43所示。單擊截面圖中的關(guān)閉按鈕可取消截面狀態(tài)，恢復到畫圖狀態(tài)。狀態(tài)欄中的Well2023/3/14圖3.43NWell截面圖2023/3/14X指NWell的意思，截面圖中NWell寬度與版圖中的NWell的寬度是一致的。圖3.44Active設(shè)計規(guī)則

（9）繪制Active圖層：首先要了解設(shè)計規(guī)則對有源區(qū)的要求。選擇Tools/DRC命令，打開DesignRuleCheck對話框，單擊其中Setup按鈕會出現(xiàn)SetupDesignRule對話框（或單擊圖標），再從其中的Ruleslist列表框選擇2.1ActiveMinimumWidth選項，可知Active的最小寬度有3個Lambda的要求，如圖3.44所示。2023/3/14圖3.44Active設(shè)計規(guī)則2023/3/14在Layers面板的下拉列表中選取Active選項，再從Drawing工具欄中選擇按鈕，在Cell0編輯窗口的NWell中畫出橫向14格縱向5格的方形Active區(qū)，如圖3.45所示。2023/3/14圖3.45繪制Active區(qū)2023/3/14（10）Active區(qū)截面觀察：選擇Tools/Cross-Section命令（或單擊按鈕），打開GenerateCross-Section對話框，單擊Pick按鈕，再在編輯畫面中選擇要觀察的位置，然后單擊OK按鈕，結(jié)果如圖3.46所示。2023/3/14圖3.46Active截面圖2023/3/14（11）設(shè)計規(guī)則檢查：選擇Tools/DRC命令，打開DesignRuleCheck對話框，選中Writeerrorstofiles復選框?qū)㈠e誤項目記錄到Cell0.drc文件或自行取文件名，若單擊“確定”按鈕，則進行設(shè)計規(guī)則檢查，結(jié)果如圖3.47所示。發(fā)現(xiàn)一個錯誤，單擊“確定”按鈕后，可執(zhí)行Tools/ClearErrorLayer命令（或單擊按鈕）清除錯誤符號。2023/3/14圖3.47設(shè)計規(guī)則檢查2023/3/14執(zhí)行命令打開錯誤記錄文件Cell0.drc，其內(nèi)容如圖3.48所示，有一個錯誤，版圖設(shè)計違反了設(shè)計規(guī)則4.6，并標出發(fā)生錯誤的坐標范圍。2023/3/14圖3.48設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果2023/3/14選擇執(zhí)行Tools/DRC命令，打開DesignRuleCheck對話框，單擊其中Setup按鈕會出現(xiàn)SetupDesignRule對話框（或單擊圖標），再從其中的Ruleslist列表框選擇4.6NotExisting選項，可知觀察該設(shè)計規(guī)則的規(guī)定，如圖3.49所示。2023/3/14圖3.49設(shè)計規(guī)則2023/3/14

4.6的規(guī)則說明NotSelectedActive層不能存在，NotSelectedActive層的定義可以選擇Setup/Layers命令觀察其定義，如圖3.50所示。4.6規(guī)則是指Active圖層必須要與PSelect圖層或NSelect重疊，而不能單獨存在，否則設(shè)計規(guī)則檢查會出錯。2023/3/14圖3.50NotSelectedActive層的定義2023/3/14（12）繪制PSelect圖層：在PMOS中有源區(qū)是P型雜質(zhì)，PSelect層是要定義P型雜質(zhì)的范圍，在工藝中要設(shè)計光刻掩膜板以限定P型雜質(zhì)的區(qū)域。但要注意PSelect區(qū)域要包住Active區(qū)，否則設(shè)計規(guī)則檢查會有錯誤。在MSOIS/ORBIT2.0U設(shè)計規(guī)則中，規(guī)則4.2b/2.5規(guī)定了有源區(qū)的邊界與PSelect的邊界至少要有2個Lambda的距離，這是包圍（Surround）規(guī)則，如圖3.51所示。2023/3/14圖3.51PSelect設(shè)計規(guī)則2023/3/14選取Layers面板中下拉列表中的PSelect選項，在NWell中繪制橫向18格，縱向9格的PSelect區(qū)，如圖3.52所示。圖中標出了4.2b中環(huán)繞規(guī)則所規(guī)定的區(qū)域。2023/3/14圖3.52繪制PSelect結(jié)果2023/3/14有源區(qū)（Active）與P選區(qū)（PSelect）的交疊處稱為pdiff區(qū)。pdiff與NWell也要服從環(huán)繞規(guī)則，設(shè)計規(guī)則2.3aSource/DrainActivetoWellEdge規(guī)定在NWell范圍內(nèi)，pdiff的邊界與NWell的邊界至少要有5個Lambda的距離，如圖3.53所示。pdiff層的定義可以通過執(zhí)行Setup/Layers命令來觀察，如圖3.54所示。圖3.55中用標尺工具標出了規(guī)則2.3a中的環(huán)繞規(guī)則所規(guī)定的區(qū)域。2023/3/14圖3.53設(shè)計規(guī)則2023/3/14圖3.54pdiff層定義圖3.55使用標尺測量2023/3/14圖3.56Poly層設(shè)計規(guī)則2023/3/14（13）繪制Ploy圖層：多晶硅就是PMOS管的柵極，需設(shè)計光刻掩膜版限制多晶硅的區(qū)域。在MOSIS/ORBIT2.0U的設(shè)計規(guī)則中，規(guī)則3.1規(guī)定了Ploy的最小寬度為2個Lambda，如圖3.56所示。在Layers面板的下拉列表選取Ploy項，在NWell的有源區(qū)中間繪制長為2個柵格、寬為7個柵格的矩形，結(jié)果如圖3.57所示。2023/3/14圖3.57Poly圖層繪制結(jié)果2023/3/14（14）設(shè)計規(guī)則檢查：執(zhí)行Tools/DRC命令進行設(shè)計規(guī)則檢查，如圖3.58所示，發(fā)現(xiàn)有2個錯誤，錯誤提示系統(tǒng)顯示違背了設(shè)計規(guī)則3.3，并標出發(fā)生錯誤的坐標范圍，如圖3.59所示。2023/3/14圖3.58設(shè)計規(guī)則檢查2023/3/14圖3.59設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果2023/3/14查看設(shè)計規(guī)則3.3，打開SetupDesignRules對話框，如圖3.60所示。從3.3延伸（Extension）規(guī)則可以看出，Ploy必須延伸出Active區(qū)域最小2個Lambda的距離。在圖3.57中所繪制的Ploy延伸出Active 只有1個Lambda，需將Ploy在延伸1個格點。2023/3/14圖3.60設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果2023/3/14（15）修改對象：執(zhí)行Edit/EditObject(s)命令或點擊圖標，打開對象編輯對話框，在Showboxcoordinates的下拉列表中選擇Corners選項，如圖3.61所示。對話框中，X1和Y1代表左下角的X、Y坐標值，X2和Y2代表右上角的X、Y坐標值。將Y1改為3.000，將Y2改為12.000，圖3.62設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果

單擊確定，即可將Ploy上下各延伸1個Lambda。也可用Alt鍵加鼠標左鍵拖曳的方法來修改對象大小，或者按住鼠標中鍵拖動的方法來修改對象大小。修改后在進行設(shè)計規(guī)則檢查即無錯誤，如圖3.62所示。2023/3/14圖3.62設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果2023/3/14（16）截面觀察：執(zhí)行Tools/Cross-Section命令（或單擊按鈕），打開GenerateCross-Section2023/3/14圖3.63截面觀察2023/3/14對話框，單擊Pick按鈕在編輯畫面中選擇要觀察的位置，然后單擊OK按鈕，結(jié)果如圖3.63所示。在實際工藝中，先制作Ploy柵極，再擴散源區(qū)和漏區(qū)，因此在繪制版圖時，可根據(jù)實際情況自行決定繪圖順序，不需要依照工藝的順序來繪制。2023/3/14（17）繪制ActiveContact圖層：PMOS的源漏區(qū)接上電極，才能在其上施加偏壓。各器件之間的信號傳遞，也要靠金屬線連接，在最低層的金屬線是以Matal1圖層表示。在制作金屬層之前，先淀積一層SiO2絕緣層，然后在絕緣層上刻出接觸孔，此接觸孔是為了使金屬與源漏擴散區(qū)接觸，Metal1與擴散區(qū)之間的接觸孔以ActiveContact圖層表示。打開SetupDesignRules對話框，如圖3.64所示，規(guī)則6.1A就規(guī)定了對ActiveContact圖層的要求，這是標準寬度（ExactWidth）規(guī)則，寬度限定在2個Lambda的大小。在Layers面板的下拉列表中選擇ActiveContact選項，在Active層中畫出橫向2格、縱向2格的方形，左右兩個擴散區(qū)各畫一個ActiveContact，如圖3.65所示。注意：此步不作DRC。2023/3/14圖3.64ActiveContact設(shè)計規(guī)則2023/3/14圖3.65繪制ActiveContact2023/3/14圖3.66ActiveContact環(huán)繞規(guī)則2023/3/14另外，ActiveContact圖層與Active圖層之間必須遵循環(huán)繞規(guī)則，如圖3.66所示。從規(guī)則6.2A可以看出，ActiveContact圖層邊界與fieldactive圖層邊界必須至少有1.5個Lambda。在圖31中，ActiveContact與fieldactive之間的環(huán)繞距離分別為1.5個Lambda（上下）與2個Lambda（左右），都滿足該設(shè)計規(guī)則。截面觀察：執(zhí)行Tool/Cross-Section命令，選定截面觀察位置，結(jié)果如圖3.67所示。2023/3/14圖3.67pmos截面圖2023/3/14（18）繪制Metal1圖層：用于與源漏區(qū)和多晶硅的接觸、各器件之間的連接線等。需遵循最小寬度（MinimumWidth）規(guī)則，從SetupDesignRules對話框可以看出，規(guī)則7.1規(guī)定了Metal1的最小寬度為3個Lambda如圖3.68所示。另外還需遵循圖3.68中規(guī)則7.4的環(huán)繞規(guī)則，即ActiveContact圖層與Metal1圖層邊界至少有1個Lambda的距離。2023/3/14圖3.68Metal1設(shè)計規(guī)則2023/3/14在Layers面板的下拉列表中選取Metal1選項，在ActiveContact周圍繪制橫向4格、縱向4格的方形，左右兩個擴散區(qū)各畫一個，如圖3.69所示。截面圖如圖3.70所示。2023/3/14圖3.69設(shè)計規(guī)則檢查結(jié)果2023/3/14圖3.70截面觀察2023/3/14

（19）保存：將Cell0的名稱重新命名，執(zhí)行Cell/Reame命令，打開RenameCellCell0對話框，將cell名稱改成pmos，這樣就建立了一個pmos組件。圖3.71圖層的隱藏圖3.72只顯示Active

（20）圖層的顯示：若只要顯示某一個圖層，可在Layers面板的下拉列表選中該層，再將鼠標移至選中圖層的圖標上單擊鼠標右鍵，在彈出的菜單命令中點擊HideAll即可。要讓圖層重新顯示則選擇ShowAll命令。2023/3/14圖3.71圖層的隱藏圖3.72只顯示Active2023/3/14（21）新建NMOS單元：選擇Cell/New命令，打開CreateNewCell對話框，在其中的Newcellname欄中輸入nmos，單擊OK按鈕。圖3.73NMOS版圖

（22）繪制NMOS單元：根據(jù)繪制PMOS單元的過程，依次繪制Active圖層、NSelect圖層、Ploy圖層、ActiveContact圖層與Metal1圖層，完成后的NMOS單元如圖3.73所示。其中，Active寬度為14個柵格，高為5個柵格；Ploy寬為2個柵格，高為9個柵格；NSelect寬為18個柵格，高為9個柵格；兩個ActiveContact的寬和高皆為2個柵格；兩個Metal1的寬和高皆為4個柵格。其截面圖如圖3.74所示。2023/3/14圖3.73NMOS版圖圖3.74NMOS截面2023/3/14（23）設(shè)計導覽：執(zhí)行View/DesignNavigator…命令，打開DesignNavigator對話框，可以看到ex1文件有nmos與pmos兩個單元，如圖3.75所示。2023/3/14圖3.75設(shè)計導覽2023/3/143.12反相器的畫法（1）啟動L-Edit程序，將文件另存為EX2，將文件lights.tdb應(yīng)用在當前的文件中，設(shè)定坐標和柵格。（2）復制單元：執(zhí)行Cell/Copy命令，打開SelectCelltoCopy對話框，將Ex1.tdb中的nmos單元和pmos單元復制到Ex2.tdb文件中。圖3.76引用nmos和pmos單元（3）引用nmos和pmos單元：執(zhí)行Cell/Instance命令，打開SelectCelltoInstance對話框，選擇nmos單元單擊OK按鈕，可以在編輯畫面出現(xiàn)一個nmos單元；再選擇pmos單元單擊OK，在編輯畫面多出一個與nmos重疊的pmos單元，可以用Alt鍵加鼠標拖曳的方法分開pmos和nmos，如圖3.76所示。2023/3/14圖3.76引用nmos和pmos單元2023/3/14（4）設(shè)計規(guī)則檢查：執(zhí)行Tools/DRC命令，打開DesignRuleCheck對話框，單擊Run，發(fā)現(xiàn)2個錯誤，如圖3.77所示。查看錯誤記錄文件Cell0.drc，可以知道2個錯誤都違反了設(shè)計規(guī)則2.3b。再打開DesignRuleCheck對話框，如圖3.78所示，設(shè)計規(guī)則2.3b說明ndiff層與NWell的最小距離為5個Lambda。圖2中ndiff層與NWell的距離為4.5個Lambda，將nmos與pmos的距離再拉開一點，如圖3.79所示。2023/3/14圖3.77設(shè)計規(guī)則檢查2023/3/14圖3.78設(shè)計規(guī)則2023/3/14圖3.79調(diào)整后的pmos和nmos2023/3/14（5）新增PMOS襯底接觸點單元：由于pmos的襯底要接電源，所以需在NWell上建立一個歐姆接觸點，其方法為在NWell上制作一個N型擴散區(qū)，再利用ActiveContact將金屬線接至此N型擴散區(qū)。而N型擴散區(qū)必須在NWell圖層繪制出Active圖層和NSelect圖層，再加上ActiveContact圖層與Metal1圖層，使金屬線與擴散區(qū)接觸。執(zhí)行Cell/New命令，打開CreateNewCell對話框，在Newcellname欄內(nèi)輸入“Basecontactp”，然后單擊OK按鈕，繪制PMOS襯底接觸點單元，其中NWell寬為15柵格、高為15柵格，Active寬為5個柵格、高為5柵格，NSelect寬為9個柵格、高為9個柵格，ActiveContact寬為2個柵格、高為2個柵格，Metal1寬為4個柵格，高為4個柵格。2023/3/14圖3.80接觸點截面2023/3/14圖3.81NMOS接觸點截面（6）新增NMOS襯底接觸點單元：執(zhí)行Cell/New命令，打開CreateNewCell對話框，在Newcellname欄內(nèi)輸入“Basecontactn”，然后單擊OK按鈕，繪制NMOS襯底接觸點單元，Active寬為5個柵格、高為5柵格，PSelect寬為9個柵格、高為9個柵格，ActiveContact寬為2個柵格、高為2個柵格，Metal1寬為4個柵格，高為4個柵格。利用截面觀察命令觀察其截面，如圖3.81所示。2023/3/14圖3.81NMOS接觸點截面2023/3/14（7）引用Basecontactp和Basecontactn單元：執(zhí)行Cell/Instance命令，打開SelectCelltoInstance對話框，分別選擇Basecontactp和Basecontactn單元，將其復制到Ex2中，并進行電氣檢查，如圖3.82所示。2023/3/14圖3.82設(shè)計規(guī)則檢查2023/3/14（8）柵極Ploy連接：由于反相器的pmos和nmos的柵極是相連的，故可在Ploy層將pmos和nmos的Ploy相連。繪制出Ploy寬為2個柵格、高為6個柵格，如圖3.83所示，經(jīng)電氣檢查，沒有錯誤。2023/3/14圖3.83連接柵極2023/3/14（9）連接pmos和nmos的漏極：由于反相器pmos和nmos的漏極是相連的，可利用Metal1將nmos與pmos的右邊擴散區(qū)有接觸點處相連接，繪制出Metal1寬為4個柵格、高為11個柵格，進行電氣檢查，沒有錯誤，如圖3.84所示。2023/3/14圖3.84連接漏極2023/3/14（10）繪制電源線：由于反相器電路需要有Vdd電源與GND，電源繪制在Metal1上，在pmos的上方和nmos的下方各繪制一個寬為39個柵格、高為5個的電源線，繪制后進行電氣檢查，共有6個錯誤，如圖3.85所示。查看錯誤記錄文件，可知電源線的繪制違背了設(shè)計規(guī)則7.2。再執(zhí)行Tools/DRC命令，打開SetupDesignRule對話框，可知規(guī)則7.2為最小間距（MinimumSpacing）規(guī)則，即要求Metal1層與Metal1層的最小間距為3個Lambda，而圖10中的間距為2.5個Lambda，因此需將間距修改為3Lambda，如圖3.86所示。2023/3/14圖3.85繪制電源線2023/3/14圖3.86調(diào)整后的電源線2023/3/14（11）標出Vdd和GND節(jié)點：單擊插入節(jié)點圖標，再到繪圖窗口中用鼠標左鍵拖曳出一個與上方電源線重疊的寬為39柵格、高為5個柵格的方格后，將自動出現(xiàn)EditObject(s)對話框，在“On”框的下拉列表中選擇Metal1，如圖3.87所示。在Portname欄內(nèi)鍵入Vdd，在TextAlignment選項中選擇文字相對于框的位置的右邊。然后單擊“確定”按鈕。用同樣的方式標出GND，如圖3.88所示。2023/3/14圖3.87編輯Vdd節(jié)點2023/3/14圖3.88加入Vdd節(jié)點圖3.89電源與接觸點的連接2023/3/14（12）電源與接觸點的連接：將pmos的左邊接觸點與Basecontactp的接觸點利用Metal1層與Vdd電源相連，而將nmos的左邊接觸點與Basecontactn的接觸點利用Metal1層與GND相連，如圖3.89所示。（13）加入輸入端口：由于反相器有一個輸入端口，且輸入信號從柵極（Ploy）輸入，根據(jù)MOSIS/Orbit2USCNAMEMS設(shè)計規(guī)范，輸入輸出信號由Metal2輸入，故一個反相器輸入端口需要繪制Metal2圖層、Via圖層、Metal1圖層、PloyContact圖層與Ploy圖層，才能將信號從Metal2層傳至Ploy層。可先在繪圖窗口的空白處繪制，再移至適當?shù)奈恢谩?023/3/14①繪制PloyContact圖層：需遵循標準寬度規(guī)則，規(guī)則8.1規(guī)定了寬度為2個Lambda。選取PloyContact圖層，繪制橫向為2格、縱向為2格的方形，如圖3.90所示。②繪制Ploy圖層：Ploy圖層與PloyContact圖層間需要遵守環(huán)繞規(guī)則。規(guī)則5.2A/5.6B規(guī)定了PloyContact邊緣與FieldPloy邊緣至少要有1.5個Lambda的距離。選取Ploy圖層，繪制橫向為5格、縱向為5格的方形，將PloyContact包住，如圖3.90所示。③繪制Metal1圖層：PloyContact是用來連接Ploy層與Metal1的接觸孔，因此繪制Metal1應(yīng)與PloyContact重疊，Metal1與PloyContact層間需遵守環(huán)繞規(guī)則，規(guī)則7.3規(guī)定了PloyContact邊緣與Metal1邊緣至少有1個Lambda的距離。選取Metal1圖層，繪制橫向為10格、縱向為4格的方形，如圖3.91所示。2023/3/14圖3.90輸入端口圖3.91制Metal1圖3.92入Via圖層2023/3/14④繪制Via圖層：Via圖層是用來連接Metal1圖層與Metal2圖層的接觸孔。繪制Via圖層需遵守標準寬度規(guī)則、與Ploy之間的最小間距規(guī)則及與Metal1圖層的環(huán)繞規(guī)則。其具體的規(guī)定見表3.9。選取Via圖層，繪制橫向和縱向各為2格的方形，如圖3.92所Metal2示。2023/3/142023/3/14⑤繪制Metal2圖層：Metal2層要與Via和Metal1重疊。繪制Metal2圖層要遵守最小寬度規(guī)則及與Via的環(huán)繞規(guī)則，其具體規(guī)定如表3.10所示。選取Metal2圖層，繪制橫向和縱向各為4格的方形，如圖3.93所示。注意，此Metal2圖層與Via和Metal1圖層重疊。2023/3/14圖3.93繪制Metal2圖3.94局部設(shè)計規(guī)則檢查2023/3/142023/3/14⑥局部設(shè)計規(guī)則檢查：將繪制結(jié)果利用局部設(shè)計規(guī)則檢查按鈕進行局部設(shè)計規(guī)則檢查。單擊圖標，利用鼠標左鍵拖曳出要檢查的地方，會彈出DesignRuleCheck對話框，單擊OK按鈕，如圖3.94所示。圖3.95組合成單元圖3.96組合結(jié)果

⑦組合成單元：先用選擇按鈕選取要組合的圖形，再執(zhí)行Draw/Group命令，彈出Group對話框，在GroupCellName欄內(nèi)鍵入名稱，然后單擊OK按鈕。如圖3.95所示。經(jīng)組合后，在Ex2中多一個Cell，如圖3.96所示。2023/3/14圖3.95組合成單元圖3.96組合結(jié)果2023/3/14⑧將組合后的輸入端口單元portA移至反相器柵極位置作為輸入端口，結(jié)果如圖3.97所示。注意，在放置時Metal1與Metal1之間的距離要有3個柵格以上，并要以設(shè)計規(guī)則檢查無誤才可。2023/3/14圖3.97放置輸入端口圖3.98放置輸入端口名A2023/3/14⑨放置節(jié)點名：單擊圖標，再選取Metal2圖層，用鼠標左鍵拖曳出一個與portA單元的Metal2圖層重疊的寬為4格、高為4格的區(qū)域后，彈出EditObject(s)對話框，在Portname欄內(nèi)鍵入A，在TextAlignment選項中選擇文字在框的左邊，再單擊“確定”按鈕，如圖3.98所示。⑩截面觀察：執(zhí)行Tools/Cross-Section命令或單擊圖標，顯示的截面圖如圖3.99所示。2023/3/14圖3.99輸入端口的截面2023/3/1414）加入輸出端口：反相器的輸出信號是從漏極輸出，由于采用MOSIS/Orbit2USCNAMEMS設(shè)計規(guī)范，輸出信號由Metal2輸出，可在連接pmos和nmos漏極的Metal1上繪制Via層與Metal2層，實現(xiàn)信號的輸出。①繪制Via層：這里的Via層用于連接Metal1和Metal2圖層的接觸孔。繪制Via圖層要遵守8.1、8.5b、8.5c和8.5d規(guī)則，有關(guān)規(guī)定見表3.11。選取Via圖層，在Metal1上繪制橫向和