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精品文檔-下載后可編輯LED襯底材料的選用-技術(shù)方案對于制作LED芯片來說,襯底材料的選用是首要考慮的問題。應(yīng)該采用哪種合適的襯底,需要根據(jù)設(shè)備和LED器件的要求進(jìn)行選擇。目前市面上一般有三種材料可作為襯底:
·藍(lán)寶石(Al2O3)
·硅(Si)
·碳化硅(SiC)
藍(lán)寶石襯底
通常,GaN基材料和器件的外延層主要生長在藍(lán)寶石襯底上。藍(lán)寶石襯底有許多的優(yōu)點(diǎn):首先,藍(lán)寶石襯底的生產(chǎn)技術(shù)成熟、器件質(zhì)量較好;其次,藍(lán)寶石的穩(wěn)定性很好,能夠運(yùn)用在高溫生長過程中;,藍(lán)寶石的機(jī)械強(qiáng)度高,易于處理和清洗。因此,大多數(shù)工藝一般都以藍(lán)寶石作為襯底。圖1示例了使用藍(lán)寶石襯底做成的LED芯片。
圖1藍(lán)寶石作為襯底的LED芯片
使用藍(lán)寶石作為襯底也存在一些問題,例如晶格失配和熱應(yīng)力失配,這會(huì)在外延層中產(chǎn)生大量缺陷,同時(shí)給后續(xù)的器件加工工藝造成困難。藍(lán)寶石是一種絕緣體,常溫下的電阻率大于1011Ω·cm,在這種情況下無法制作垂直結(jié)構(gòu)的器件;通常只在外延層上表面制作n型和p型電極(如圖1所示)。在上表面制作兩個(gè)電極,造成了有效發(fā)光面積減少,同時(shí)增加了器件制造中的光刻和刻蝕工藝過程,結(jié)果使材料利用率降低、成本增加。由于P型GaN摻雜困難,當(dāng)前普遍采用在p型GaN上制備金屬透明電極的方法,使電流擴(kuò)散,以達(dá)到均勻發(fā)光的目的。但是金屬透明電極一般要吸收約30%~40%的光,同時(shí)GaN基材料的化學(xué)性能穩(wěn)定、機(jī)械強(qiáng)度較高,不容易對其進(jìn)行刻蝕,因此在刻蝕過程中需要較好的設(shè)備,這將會(huì)增加生產(chǎn)成本。
藍(lán)寶石的硬度非常高,在自然材料中其硬度僅次于金剛石,但是在LED器件的制作過程中卻需要對它進(jìn)行減薄和切割(從400nm減到100nm左右)。添置完成減薄和切割工藝的設(shè)備又要增加一筆較大的投資。
藍(lán)寶石的導(dǎo)熱性能不是很好(在100℃約為25W/(m·K))。因此在使用LED器件時(shí),會(huì)傳導(dǎo)出大量的熱量;特別是對面積較大的大功率器件,導(dǎo)熱性能是一個(gè)非常重要的考慮因素。為了克服以上困難,很多人試圖將GaN光電器件直接生長在硅襯底上,從而改善導(dǎo)熱和導(dǎo)電性能。
硅襯底
目前有部分LED芯片采用硅襯底。硅襯底的芯片電極可采用兩種接觸方式,分別是L接觸(Laterial-contact,水平接觸)和V接觸(Vertical-contact,垂直接觸),以下簡稱為L型電極和V型電極。通過這兩種接觸方式,LED芯片內(nèi)部的電流可以是橫向流動(dòng)的,也可以是縱向流動(dòng)的。由于電流可以縱向流動(dòng),因此增大了LED的發(fā)光面積,從而提高了LED的出光效率。因?yàn)楣枋菬岬牧紝?dǎo)體,所以器件的導(dǎo)熱性能可以明顯改善,從而延長了器件的壽命。
碳化硅襯底
碳化硅襯底(美國的CREE公司專門采用SiC材料作為襯底)的LED芯片電極是L型電極,電流是縱向流動(dòng)的。采用這種襯底制作的器件的導(dǎo)電和導(dǎo)熱性能都非常好,有利于做成面積較大的大功率器件。采用碳化硅襯底的LED芯片如圖2所示。
圖2采用藍(lán)寶石襯底與碳化硅襯底的LED芯片
碳化硅襯底的導(dǎo)熱性能(碳化硅的導(dǎo)熱系數(shù)為490W/(m·K))要比藍(lán)寶石襯底高出10倍以上。藍(lán)寶石本身是熱的不良導(dǎo)體,并且在制作器件時(shí)底部需要使用銀膠固晶,這種銀膠的傳熱性能也很差。使用碳化硅襯底的芯片電極為L型,兩個(gè)電極分布在器件的表面和底部,所產(chǎn)生的熱量可以通過電極直接導(dǎo)出;同時(shí)這種襯底不需要電流擴(kuò)散層,因此光不會(huì)被電流擴(kuò)散層的材料吸收,這樣又提高了出光效率。但是相對于藍(lán)寶石襯底而言,碳化硅制造成本較高,實(shí)現(xiàn)其商業(yè)化還需要降低相應(yīng)的成本。
三種襯底的性能比較
前面的內(nèi)容介紹的就是制作LED芯片常用的三種襯底材料。這三種襯底材料的綜合性能比較可參見表1。
表1三種襯底材料的性能比較
除了以上三種常
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