高中化學(xué) 4.1.2 硅酸鹽的硅單質(zhì)隨堂練習(xí) 新人教版必修1_第1頁(yè)
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【創(chuàng)新設(shè)計(jì)】高中化學(xué)4.1.2硅酸鹽的硅單質(zhì)隨堂練習(xí)新人教版必修11.(對(duì)應(yīng)考點(diǎn)一)下列說法正確的是()A.硅是良好的半導(dǎo)體材料,能與鹽酸或氫氧化鈉溶液反應(yīng)B.二氧化硅不導(dǎo)電,能與鹽酸或氫氧化鈉溶液反應(yīng)C.硅酸具有多孔性結(jié)構(gòu),可用作吸附劑或催化劑載體D.二氧化硅是酸性氧化物,能與氫氟酸反應(yīng),也能與氫氧化鈉溶液反應(yīng)解析:硅與鹽酸不反應(yīng),A不正確;二氧化硅與鹽酸也不反應(yīng),B不正確;具有多孔結(jié)構(gòu),用作吸附劑或催化劑載體的是硅膠,而不是硅酸,C不正確;D項(xiàng)正確,SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O,2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O。答案:D2.(對(duì)應(yīng)考點(diǎn)一)由下列實(shí)驗(yàn)事實(shí)得出的結(jié)論正確的是()A.由SiO2不能與水反應(yīng)生成H2SiO3,可知SiO2不是酸性氧化物B.由SiO2+2Ceq\o(=,\s\up7(高溫))Si+2CO↑,可知碳的非金屬性大于硅C.CO2通入Na2SiO3溶液產(chǎn)生白色沉淀,可知酸性H2CO3>H2SiO3D.SiO2可與NaOH溶液反應(yīng),也可與氫氟酸反應(yīng),可知SiO2為兩性氧化物解析:SiO2是酸性氧化物,A項(xiàng)錯(cuò)誤;反應(yīng)SiO2+2Ceq\o(=,\s\up7(高溫))Si+2CO↑不能說明碳的非金屬性比硅強(qiáng),該反應(yīng)能發(fā)生是因?yàn)樯蒀O氣體,它的放出促進(jìn)了反應(yīng)進(jìn)行,B項(xiàng)錯(cuò)誤;CO2通入Na2SiO3溶液中生成H2SiO3膠體,符合強(qiáng)酸制弱酸的規(guī)律,證明酸性H2CO3>H2SiO3,C項(xiàng)正確;D項(xiàng)中SiO2除氫氟酸外不能與其他的酸反應(yīng),SiO2為酸性氧化物,不具有兩性,D項(xiàng)錯(cuò)誤。答案:C3.(對(duì)應(yīng)考點(diǎn)二)下列關(guān)于硅的說法不正確的是()A.硅是非金屬元素,它的單質(zhì)是灰黑色有金屬光澤的固體B.硅的導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間,是良好的半導(dǎo)體材料C.硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下不與任何物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)D.加熱到一定溫度時(shí),硅能與氯氣、氧氣等非金屬反應(yīng)解析:硅的導(dǎo)電性介于導(dǎo)體和絕緣體之間,是良好的半導(dǎo)體材料;硅的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、常溫下可與F2、HF、強(qiáng)堿溶液反應(yīng),加熱或高溫下可與O2、Cl2等一些非金屬發(fā)生反應(yīng)。答案:C4.(對(duì)應(yīng)考點(diǎn)二)單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料??茖W(xué)家預(yù)計(jì),到年一個(gè)電腦芯片上將會(huì)集成10億個(gè)晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對(duì)硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2Ceq\o(=,\s\up7(高溫))Si+2CO↑②Si+2Cl2eq\o(=,\s\up7(△))SiCl4③SiCl4+2H2eq\o(=,\s\up7(△))Si+4HCl。下列對(duì)上述三個(gè)反應(yīng)的敘述中,不正確的是()A.①③為置換反應(yīng)B.②為化合反應(yīng)C.①②③均為氧化還原反應(yīng)D.三個(gè)反應(yīng)的反應(yīng)物中硅元素均被還原解析:反應(yīng)①③中硅元素被還原,反應(yīng)②中硅元素被氧化,D錯(cuò)誤。答案:D5.(熱點(diǎn)題)氮化硅高溫陶瓷材料是現(xiàn)代重要的結(jié)構(gòu)陶瓷,因其有硬度大、熔點(diǎn)高、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)而受到廣泛關(guān)注。工業(yè)上普遍用下列流程進(jìn)行生產(chǎn):(1)SiO2和C反應(yīng)除了得到粗硅外,還有可能得到一種硬度也很大的物質(zhì),是生成粗硅還是生成該物質(zhì)主要是由________決定的。(2)反應(yīng)①的條件是____________________________________________________。(3)寫出反應(yīng)②的化學(xué)方程式____________________________________________。(4)A中可能的雜質(zhì)有__________________________________________________。(5)現(xiàn)在是用四氯化硅、氮?dú)狻錃庠谙∮袣怏w保護(hù)下加強(qiáng)熱,得到純度較高的氮化硅,其反應(yīng)方程式為______________________________________________________________________________________________________________________________。解析:SiO2與C在高溫下反應(yīng),會(huì)因C的用量不同而使產(chǎn)物不同:SiO2+2Ceq\o(=,\s\up7(高溫))Si+2CO↑或SiO2+3Ceq\o(=,\s\up7(高溫))SiC+2CO↑;反應(yīng)①的條件是:高溫和隔絕空氣;反應(yīng)②的化學(xué)方程式:3CuO+2NH3eq\o(=,\s\up7(△))3Cu+N2+3H2O;A中可能的雜質(zhì)有:NH3和H2O;得到純度較高的氮化硅的反應(yīng)方程式為:3SiCl4+2N2+6H2eq\o(=,\s\up7(高溫))Si3N4+12HCl。答案:(1)C的用量(2)高溫和

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