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1、 l半導(dǎo)體及其性質(zhì)l直接帶隙和間接帶隙半導(dǎo)體定義l直接帶隙和間接帶隙半導(dǎo)體的性質(zhì)l半導(dǎo)體半導(dǎo)體:半導(dǎo)體(semiconductor),是一種導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料,并有負(fù)的電阻溫度系數(shù)的材料。這種材料在某個(gè)溫度范圍內(nèi)隨溫度升高而增加電荷載流子的濃度,電阻率下降。如硅、鍺、硒等,半導(dǎo)體之所以得到廣泛應(yīng)用,是因?yàn)樗膶?dǎo)電能力受摻雜、溫度和光照的影響十分顯著 常用的半導(dǎo)體材料分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體。元素半導(dǎo)體是由單一元素制成的半導(dǎo)體材料。主要有硅、鍺、硒等,以硅、鍺應(yīng)用最廣?;衔锇雽?dǎo)體分為二元系、三元系、多元系和有機(jī)化合物半導(dǎo)體。二元系化合物半導(dǎo)體有-族(如砷化鎵、磷化鎵、磷化銦
2、等)、-族(如硫化鎘、硒化鎘、碲化鋅、硫化鋅等)、 -族(如硫化鉛、硒化鉛等) 、-族(如碳化硅)化合物。三元系和多元系化合物半導(dǎo)體主要為三元和多元固溶體,如鎵鋁砷固溶體、鎵鍺砷磷固溶體等。有機(jī)化合物半導(dǎo)體有萘、蒽、聚丙烯腈等,還處于研究階段。此外,還有非晶態(tài)和液態(tài)半導(dǎo)體材料,這類半導(dǎo)體與晶態(tài)半導(dǎo)體的最大區(qū)別是不具有嚴(yán)格周期性排列的晶體結(jié)構(gòu) 半導(dǎo)體和絕緣體在正常情況下,幾乎所有電子都在價(jià)帶或是其下的量子態(tài)里,因此沒有自由電子可供導(dǎo)電。 半導(dǎo)體和絕緣體之間的差異在於兩者之間能隙(energy bandgap)寬度不同,亦即電子欲從價(jià)帶跳入傳導(dǎo)帶(conduction band)時(shí)所必須獲得的最低
3、能量不一樣。通常能隙寬度小於3電子伏特(eV)者為半導(dǎo)體,以上為絕緣體。半導(dǎo)體的基本能帶圖如左圖所示,但在一般溫度下,由于熱激發(fā)價(jià)帶頂部有少量的空穴,導(dǎo)帶底部有少量的電子,如右圖所示,這些電子和空穴就是半導(dǎo)體的載流子,決定了半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力 帶隙:帶隙:導(dǎo)帶的最低點(diǎn)和價(jià)帶的最高點(diǎn)的能量之差。也稱能隙。帶隙越大,電子由價(jià)帶被激發(fā)到導(dǎo)帶越難,本征載流子濃度就越低,電導(dǎo)率也就越低l半導(dǎo)體吸收光子使電子由價(jià)帶激發(fā)到導(dǎo)帶,形成電子-空穴對(duì)的過程就叫本征光吸收。l光子能量滿足的條件是: l準(zhǔn)動(dòng)量守恒條件是: gEphotonkkp 在躍遷過程中,波矢可以看做是不變的,在能帶圖示上,初態(tài)和末態(tài)基本上在一條直
4、線上,價(jià)帶頂和導(dǎo)帶底處于k空間同一點(diǎn),電子要躍遷到導(dǎo)帶上產(chǎn)生導(dǎo)電的電子和空穴(形成半滿能帶)只需要吸收能量這樣的躍遷稱為豎直躍遷,相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為直接帶隙半導(dǎo)體 常見的直接半導(dǎo)體:GaAs、InP半導(dǎo)體l間接躍遷時(shí),在K空間,電子吸收光子從價(jià)帶頂部躍遷到導(dǎo)帶底部狀態(tài),在這一過程中,因?yàn)楣庾拥哪芰刻?,所以單純吸收光子不能使電子由價(jià)帶頂躍遷到導(dǎo)帶底部,因此電子在吸收光子的同事伴隨著吸收或者發(fā)出一個(gè)聲子,光子提供躍遷所需要的能量,聲子提供躍遷所需要的動(dòng)量,這種躍遷方式稱為非豎直躍遷,l非豎直躍遷是一個(gè)二級(jí)過程,發(fā)生幾率要比豎直躍遷小的多,這類半導(dǎo)體稱為間接帶隙半導(dǎo)體l常見的間接帶隙半導(dǎo)體:Ge,S
5、il當(dāng)價(jià)帶電子往導(dǎo)帶躍遷時(shí),電子波矢不變,在能帶圖上即是豎直地躍遷,這就意味著電子在躍遷過程中,動(dòng)量可保持不變滿足動(dòng)量守恒定律。相反,如果導(dǎo)帶電子下落到價(jià)帶(即電子與空穴復(fù)合)時(shí),也可以保持動(dòng)量不變直接復(fù)合,即電子與空穴只要一相遇就會(huì)發(fā)生復(fù)合(不需要聲子來接受或提供動(dòng)量)。因此,直接帶隙半導(dǎo)體中載流子的壽命必將很短;同時(shí),這種直接復(fù)合可以把能量幾乎全部以光的形式放出(因?yàn)闆]有聲子參與,故也沒有把能量交給晶體原子)發(fā)光效率高(這也就是為什么發(fā)光器件多半采用直接帶隙半導(dǎo)體來制作的根本原因)。l 簡(jiǎn)單點(diǎn)說,從能帶圖譜可以看出,間接帶隙半導(dǎo)體中的電子在躍遷時(shí)K K值會(huì)發(fā)生變化,這意味著電子躍遷前后在K K空間的位置不一樣了,這樣會(huì)極大的幾率將能量釋放給晶格,轉(zhuǎn)化為聲子,變成熱能釋放掉。而直接帶隙中的電子躍遷前后只有能量變化,而無位置變化,于是便有更大的幾率將能量以光子的形式釋放出來。另一方面,
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