GB/T 9797-2005金屬覆蓋層鎳＋鉻和銅＋鎳＋鉻電鍍層

ICS25.220.40A29中華人民共和國國家標準GB/T9797—2005/ISO1456:2003代替GB/T9797-1997金屬覆蓋層鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層Metaliiccoatings-Electroplatedcoatingsofnickelpluschromiumandofcopperplusnickelpluschromium(ISO1456:2003.IDT)2005-10-12發(fā)布2006-04-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標準化管理委員會

GB/T9797-2005/ISO1456：2003次前言引言1池圍2規(guī)范性引用文件3術語和定義需方應向電鍍方提供的信息5服役條件號·……6標識7要求8抽樣附錄A（資料性附錄）各種服役條件號相對應的服役環(huán)境舉例附錄B（規(guī)范性附錄）鉻鍍層中孔隙密度和裂紋密度的測量（規(guī)范性附錄）附錄C）厚度測量方法（規(guī)范性附錄)附錄D延展性試驗13（規(guī)范性附錄)附錄E電沉積鎳層含硫量的測定參考資料

GB/T9797-2005/ISO1456:2003本標準等同采用ISO1456:2003(E）《金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳十鉻電鍍層》(英文版)本標淮根據(jù)ISO1456:2003(E)翻譯起草，本標準對應1S0O1456作了如下修改:按國內(nèi)現(xiàn)有的覆蓋層系列標準習慣.標準名稱前加上“金屬覆蓋層"：取消了國際標準的前言，增加了我國標準前言;為便于使用,引用了采用國際標準的我國標準：用"本標準"代替“本國際標準"。本標準代替GB/T9797—1997《金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳十鉻電鍍層》本標準與GB/T9797—1997相比，主要變化如下：補充了引言：修改了適用范圍的說明；增加了引用標準；增加了術語和定義：修改了第4章需方和電鍍方應提供的信息：修改了服役條件號的劃分：增加了第6章鍍層標識和重新編制了對應的圖表和注；合并了1997版標準中第7章第9章部分內(nèi)容，使之更明確；增加了附錄C、附錄D、附錄E。本標準附錄八為資料性附錄.附錄B、附錄C、附錄D、附錄E為規(guī)范性附錄本標準由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出本標準由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會歸口本標準起草單位：武漢材料保護研究所、浙江新豐企業(yè)有限責任公司、廣東金暉電鍍廠本標準主要起草人：賈建新、毛祖國、何杰、鄭秀林、林云峰本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為：-GB9797-1988.GB/T9797-1997。

GB/T9797-2005/ISO1456:2003在零件制造中電鍍裝飾性的鎳十鉻和銅十鎳十鉻鍍層.可用于增強零件外觀裝飾和防腐蝕性能。防腐蝕性能取決于鍍層的厚度和類型?？偟膩碚f.多層鎳比同等厚度的單層鎳能提供更好的防腐蝕性微裂紋狀態(tài)的鉻鍍層比常規(guī)鉻鍍層能提供更好的保護，

GB/T9797-2005/ISO1456:2003金屬覆蓋層鎳+鉻和銅十鎳+鉻電鍍層1范圍本標準規(guī)定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上，提供裝飾性外觀和增強防腐蝕性的鎳+格和銅十鎳十鉻電鍍層的要求。規(guī)定了不同厚度和種類鍍層的標識,提供了電鍍制品暴露在對應服役環(huán)境下鍍層標識選擇的指南。本標準未規(guī)定電鍍前基體金屬的表面狀態(tài),本標準不適用于未加工成形的薄板、帶材、線材的電鍍，也不適用于螺紋緊固件或螺旋彈簧上的電鍍。GB/T12600規(guī)定了塑料上銅+鎳+鉻電鍍層的要求。GB/T9798規(guī)定了未鍍鉻面層的相同鍍層的要求。GB/T12332和GB/T11379分別規(guī)定了工程用鎳和工程用鉻電鍍層的要求。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標準,然而，鼓勵根據(jù)本標準達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本均適用于本標準。GB/T3138金屬鍍覆和化學處理與有關過程術語(GB/T3138—1995.neqISO2079:1981)GB/T4955金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法(GB/T4955—1997.idtISO2177:1985）GB/T5270金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學沉積層)附著強度試驗方法（GB/T5270-1985.eqvISO2819:1980）GB/T6461—2002金屬基體上金屬和其他無機覆蓋層經(jīng)腐蝕試驗后的試樣和試件的評級（ISO10289：1999.1DT）GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法(GB/T6462—1986.eqvISO1463:1982）GB/T6463金屬和其他無機覆蓋層厚度測量方法的評述(GB/T6463—1986.qvISO3882:1986）GB/T6465金屬和其他無機覆蓋層離蝕膏腐蝕試驗(CORR試驗）（GB/T6465—1986.eqvISO4541:1978）GB/T10125—1997人造氣氰腐蝕試驗鹽霧試驗(eqvISO9227:1990）GB/T12334金屬和其他非無機覆蓋層關于厚度測量的定義和一般規(guī)則(idtISO2064:1996)GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和有關精飾計數(shù)抽樣檢查程序（GB/T12609:2005.ISO4519:1980.IDT)GB/T13744磁性及非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測量(GB/T13744—1992.idtISO2361: