頭部(顱腦連續(xù)橫斷層解剖)-斷層PPT參考幻燈片

1、斷層解剖學,電子課件,顱腦連續(xù)橫斷層解剖,頭部斷層解剖學（二）,橫斷層面分為上、中、下三部分。 上部為胼胝體干和尾狀核體出現(xiàn)以上的層面，大腦半球被大腦鐮分隔為左、右兩部分，以中央溝和頂枕溝將端腦斷面分為額葉、頂葉和枕葉；,中部為基底核區(qū)和腦室等所在的層面，由胼胝體等連合纖維將左、右側大腦半球連成一整體，不同層面的中央區(qū)之間的差異主要為基底核區(qū)、側腦室和第三腦室等的位置、形態(tài)的變化，層面周邊以中央溝和外側溝將端腦分為額葉、頂葉和顳葉；,下部是自鞍上池以下的層面，腦組織被大腦外側窩池和小腦幕等分為數(shù)塊，隨層面下移則腦組織逐漸縮少，不同層面的中央區(qū)之間的差異主要為腦池、腦干和第四腦室等的位置、形態(tài)的

2、變化。,3. 經頂枕溝上份的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：額上溝、額中回、扣帶溝和回、頂下溝、楔葉； 中線及內側面結構：上矢狀竇、大腦鐮及大腦縱裂池、額內側回、中央旁小葉、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側面結構：額上回、額上溝、額 中回、中央前溝、中央前回、中央溝、 中央后回、中央后溝、頂下小葉； 影像解剖學特征：頂內溝的變化較 大，但多起自中央后溝；頂內溝與大 腦半球上緣平行且彎向后方；頂內溝 將頂葉分為頂上小葉和頂下小葉，也 是語言區(qū)即Wernicke區(qū)的上界。,4. 經頂枕溝中份的顱腦橫斷層解剖特點 斷面變化：中央旁小葉消失，顳肌斷面出現(xiàn)； 中線及內側面結構：額內側回

3、、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側面結構：額上回、額上溝、額中回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、中央后溝、頂下小葉； 影像解剖學特征：髓質連成片狀， 腦溝移向四周且縮短；中央旁小葉 消失，尚可見起自中央后溝的頂內溝； 頂枕溝呈直線或S形走行，多于距 狀溝前、中1/3交界處與距狀溝匯合， 如兩溝分離則期間常有一過渡腦回存 在。,5. 經半卵圓中心的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：頂內溝消失，半卵圓中心及緣上回斷面出現(xiàn)； 中線及內側面結構：額內側回、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側面結構：額上回、額上溝、額中回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、中

4、央后溝、緣上回和頂下小葉； 影像解剖學特征：大腦髓質增至最 大，大致呈卵圓形；半卵圓中心在CT 圖像上呈低密度暗區(qū)，MRI T1加權像上 呈高信號亮區(qū)；腦內脫髓鞘病變，如 多發(fā)性硬化、腎上腺腦白質營養(yǎng)不良和 腦結節(jié)硬化癥等，常在該區(qū)出現(xiàn)單發(fā)或 多發(fā)病灶。,6. 經胼胝體干部的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：半卵圓中心及頂下溝消失，額下回、胼胝體、側腦室、角回、外側溝斷面出現(xiàn)； 中線及內側面結構：額內側回、扣帶溝及回（胼胝體干額鉗之前）；扣帶回峽、距狀溝前部、舌回、距狀溝后部和楔葉（胼胝體枕鉗之后）； 外側面結構：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、外側溝

5、、緣上回、角回和枕外側回； 影像解剖學特征：胼胝體干出現(xiàn)于層面中央，呈X形，并向前外、后外分別延伸形成額鉗和枕鉗；側腦室位于胼胝體干外側，其前外側的灰質團塊為尾狀核；中線上的大腦鐮被分為前后兩部分，近顱骨處有上矢狀竇，后部大腦鐮的前方有大腦大靜脈池及其后的下矢狀竇；一般情況下，外側溝后支與側腦室在橫斷層面上同時出現(xiàn)，故側腦室的出現(xiàn)是識別外側溝后支的標志；緣上回包繞外側溝后支末端，角回包繞于顳上溝末端，故外側溝后支是識別緣上回和角回的解剖標志。,18,1,2,3,4,5,6,7,8,10,11,12,13,14,15,16,17,19,20,7. 經胼胝體壓部的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：緣上

6、回和楔葉消失，內囊、第三腦室、透明腔、穹窿、禽距和島葉的斷面出現(xiàn)； 中線及內側面結構：大腦鐮、額內側回、扣帶溝和回、胼胝體膝、透明隔、穹窿、第三腦室、帆間池、胼胝體壓部、大腦大靜脈池、直竇、距狀溝、舌回和楔葉； 外側面結構：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、中央前回、中央溝、中央后回、外側溝、顳橫回、顳上回、顳上溝、顳中回和枕葉； 深面結構：尾狀核頭、側腦室前角、內囊、豆狀核、外囊、屏狀核、最外囊、島葉皮質、背側丘腦、側腦室后角、禽距和尾狀核尾。,影像解剖學特征：第三腦室：呈正中矢狀位，后方的三角形腔隙為帆間池，前方有透明隔和穹窿，兩側灰質團塊為背側丘腦；內囊和基底核：背側丘腦與豆狀核和

7、尾狀核之間為內囊，豆狀核與屏狀核之間為外囊，屏狀核與島葉皮質之間為最外囊；側腦室：在胼胝體膝后方，與尾狀核頭、透明隔和穹窿間的腔隙為側腦室前角，向后經室間孔與第三腦室相通；在胼胝體壓部的兩側，有側腦室后角，其內側可見隆起的禽距；距狀溝：自胼胝體壓部下方向后走向枕極，深1.5-2.0cm，以頂枕溝與其匯合點為界分為前、后兩部分；距狀溝前部的位置及形態(tài)較恒定；距狀溝前部推頂腦回突入側腦室后角形成一隆起的禽距，因此，側腦室后角內側壁上的禽距是識別距狀溝的重要標志。,8. 經上丘和前連合的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：角回、距狀溝、禽距及帆間池消失，小腦幕、上丘、海馬、側副隆起和內、外側膝狀體的斷面出

8、現(xiàn)； 中線、內側面及底面結構：大腦鐮、額內側回、扣帶溝和回、胼胝體膝、透明隔、穹窿、丘腦間粘合、第三腦室、上丘、小腦、直竇、竇匯、海馬旁回、側副溝、枕顳內側回、枕顳溝、枕顳外側回； 外側面結構：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、外側溝、顳上回、顳上溝、顳中回、顳下溝、顳下回； 深面結構：基底節(jié)、內囊、外囊、最外囊、島葉皮質、背側丘腦、側腦室前角和后角、側副隆起、內外側膝狀體等。 影像解剖學特征：海馬、尾狀核尾及側副隆起：側腦室下角前外側壁的灰質團塊為尾狀核尾，內側有海馬溝推頂腦回形成的海馬；后壁上有側副溝推頂腦回形成的側副隆起；小腦及小腦幕：上丘的后方有呈“八”形的小腦幕，其間為小腦蚓的

9、上部；竇匯：枕骨的前方為竇匯，竇匯與小腦之間為直竇；島葉皮質：自前向后分為額蓋（運動性語言中樞）、頂蓋（軀體運動和感覺中樞）和顳蓋（多為緣上回，聽覺性語言中樞）。,5,1,3,4,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,9. 經下丘的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：內囊、胼胝體、透明隔、上丘及側副隆起消失，小腦半球、中腦水管、下丘、紅核、黑質、杏仁體的斷面出現(xiàn)； 中線、內側面及底面結構：大腦鐮、額內側回、扣帶溝和回、大腦前動脈、第三腦室、中腦水管、四疊體池、小腦幕、小腦蚓部、竇匯、小腦幕、海馬旁回、側副溝、枕顳內側回、枕顳溝、枕顳外側回； 外側面結構：額

10、上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、外側溝、顳上回、顳上溝、顳中回、顳下溝、顳下回； 深面結構：基底節(jié)、外囊、最外囊、島葉皮質、背側丘腦、側腦室前角和后角、側副隆起、內外側膝狀體等。 影像學特征：中腦斷面：位于斷層中央，自前向后分為大腦腳底、黑質、中腦被蓋和頂蓋；腦池：下丘腦后方為四疊體池，向兩側環(huán)繞中腦與環(huán)池相續(xù)；外側溝呈“”形，內有大腦外側窩池（側裂池）和大腦中動脈；外側溝：由一干五支組成。外側溝干起自前穿質，經額葉眶面與顳極之間向外側延伸，達大腦半球上外側面分為前支、升支和后支；前支和升支連成、或形向上深入額下回。后支向后上走行分為后升支和后降支；后升支終于緣上回，后降支升入顳上回。,

11、10. 經小腦上腳的顱腦橫斷層解剖特點 首現(xiàn)斷面：第三腦室、中腦、下丘、殼和尾狀核頭消失，鞍上池、視交叉、腦橋、小腦上腳和第四腦室的斷面出現(xiàn)； 影像學特征：層面內的結構分四部分，即外側溝前方的額葉：外側面額葉可見額上回、額中回、額下回和額內側回；在底面，額葉被中間的嗅束溝分為內側的直回和外側的眶回。外側溝與小腦幕之間為顳葉：顳葉外側面自前而后為顳上回、顳中回和顳下回；顳葉內的腔隙為側腦室下角，其前內側的灰質團塊為杏仁體，內側卷曲的結構是海馬。兩側小腦幕之間為腦橋和小腦：腦橋經小腦上角與后方的小腦相連，小腦由小腦半球和小腦蚓組成。小腦髓質內較大的灰質團塊為齒狀核。額葉、顳葉和腦橋之間的空隙為鞍上池：鞍上池呈五角形，由交叉池和橋池組成。內有視交叉（視束）、下丘