干涉光刻制作納米結(jié)構(gòu)研究課件

1、干涉光刻制作納米結(jié)構(gòu)研究專業(yè)：電子科學(xué)與技術(shù)姓名：步驚云學(xué)號(hào)：2011090080055指導(dǎo)教師：聶風(fēng)目錄1234 研究背景和目的課題理論基礎(chǔ)研究成果展示后期目標(biāo)一、 研究背景和目的 干涉光刻工藝的研究已經(jīng)在國(guó)外興起多年，這種工藝在加工亞微米尺度的表面結(jié)構(gòu)表現(xiàn)出極大的優(yōu)勢(shì)，也為這些領(lǐng)域的研究提供了一重強(qiáng)有力的加工手段。 小尺度納米結(jié)構(gòu)加工中，Johannes等人證明了激光干涉光刻的加工尺度可以突破其光波波長(zhǎng)極限，而進(jìn)一步將表面圖形尺度縮?。?Ke Du研究小組以激光干涉光刻工藝加工的表面結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ)，通過淀積金屬的方法得到了質(zhì)量很好的模版； Ivan B.Divliansky證明了該工藝加工出的

2、表面結(jié)構(gòu)在光子晶體應(yīng)用中表現(xiàn)出非常好的應(yīng)用價(jià)值。 而國(guó)內(nèi)僅有少數(shù)高校和科研機(jī)構(gòu)對(duì)激光干涉工藝進(jìn)行研究，起步較早的有四川大學(xué)、南京大學(xué)以及復(fù)旦大學(xué) 盡管相對(duì)于國(guó)外起步較晚，但我國(guó)的干涉光刻技術(shù)在穩(wěn)步追趕1 研究現(xiàn)狀一、研究背景和目的開發(fā)一款使用405nm激光器為光源的Lloyds mirror激光干涉光刻設(shè)備，具備大面積、小尺度、穩(wěn)定度高和工藝簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)；為亞微米尺度的加工提供了一種相對(duì)廉價(jià)且方便的手段，將大大推動(dòng)國(guó)內(nèi)對(duì)表面周期性納米結(jié)構(gòu)應(yīng)用的研究；結(jié)合實(shí)驗(yàn)提出一些新的加工理念，將更為豐富激光干涉光刻工藝加工結(jié)構(gòu)的種類，為激光干涉光刻在新的材料新的應(yīng)用領(lǐng)域提供堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ) 2 研究目的二、課題理論

3、基礎(chǔ)兩束波長(zhǎng)為，強(qiáng)度同為 的平面波分別以相同的入射角對(duì)稱地入射到同一平面，該平面的光強(qiáng)分步可以寫為這兩束光干涉的強(qiáng)度在X-Z平面內(nèi)沿著X方向成正弦變化，在垂直于X軸方向的平面上形成光柵線條圖案，其周期P取決于 1 干涉光刻基本原理二、課題理論基礎(chǔ)正文內(nèi)容介紹 2 Lloyds-mirror激光干涉光刻平臺(tái) 由于這套系統(tǒng)借助于一面與樣品平面呈90平面反射鏡,因此在僅需要一個(gè)光束,便可由反射鏡所反射的部分光波同直接照射在樣品平臺(tái)的光波產(chǎn)生的干涉條紋來加工表面納米結(jié)構(gòu)二、課題理論基礎(chǔ)3 光刻工藝流程圖氣相成底膜旋轉(zhuǎn)涂膠軟烘對(duì)準(zhǔn)和曝光曝光后烘培顯影堅(jiān)膜顯影后檢查三、研究成果展示 1 不同周期光柵結(jié)構(gòu)的

4、加工周期700nm，入射角17周期1.2um，入射角8三、研究成果展示 2 不同占空比光柵結(jié)構(gòu)的加工占空比約為1:1.5占空比約為2:1三、研究成果展示 3 多尺度光柵結(jié)構(gòu)的加工1400nm+700nm 三、研究成果展示 4 二維單周期點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的加工1400nm1400nm三、研究成果展示 4 二維單周期點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的加工SEM掃描結(jié)果三、研究成果展示5 二維多尺度結(jié)構(gòu)的加工1400nm+700nm+460nm三、研究成果展示6 曝光時(shí)長(zhǎng)對(duì)結(jié)構(gòu)的影響曝光50秒曝光65秒曝光75秒三、研究成果展示7 灰塵對(duì)光鏡照片的影響硅片表面灰塵光路中的灰塵三、研究成果展示8 顯影時(shí)間過長(zhǎng)對(duì)光鏡照片的影響三、研究成果展示9 表面形貌SEM掃描結(jié)果AFM掃描結(jié)果