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文檔簡介
三 半導體中雜質(zhì)能級 1 雜質(zhì)的占位方式實際半導體中總存在某些雜質(zhì) 無意摻雜 有意摻雜 少量摻雜能對半導體物理和化學性質(zhì)及器件質(zhì)量有決定性影響 根本原因在于 雜質(zhì)存在使晶體中嚴格周期性排列原子產(chǎn)生的周期性勢場受到破壞 可在禁帶中引入能級 以元素半導體Si為例分析雜質(zhì)進入半導體中占位方式 金剛石型晶體中晶胞內(nèi)8個原子占晶胞體積34 尚有64 間隙位置替位式雜質(zhì) 雜質(zhì)原子取代晶格原子位于格點位置 原子大小及價電子殼層結構相近 間隙式雜質(zhì) 雜質(zhì)原子位于晶格原子間的間隙位置 間隙原子半徑比較小 2 雜質(zhì)能級1 施主雜質(zhì) 施主能級 族元素在Si中是替位雜質(zhì) 如 Si中摻雜 族元素P雜質(zhì)電離 雜質(zhì)電離后形成晶格中不能移動正電中心和晶格中自由電子 雜質(zhì)電離能 價電子脫離雜質(zhì)原子束縛成為導電電子所需能量施主能級 2 受主雜質(zhì) 受主能級如 Si中摻雜 族元素B為例B替代Si后在Si晶體共價鍵中產(chǎn)生一個空穴 形成受主雜質(zhì)電離能 受主能級 3 淺雜質(zhì)電離能的簡單估算利用類氫模型 4 雜質(zhì)的補償作用 5 深能級雜質(zhì) 6 如 GaAs中雜質(zhì)能級狀況
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