標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 11094-2007 水平法砷化鎵單晶及切割片》相比于《GB/T 11094-1989 水平法砷化鎵單晶及切割片》，主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整：

  1. 技術(shù)指標(biāo)的修訂：新版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)砷化鎵單晶及切割片的物理、化學(xué)性能指標(biāo)進(jìn)行了重新定義和調(diào)整，以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和市場(chǎng)發(fā)展的新要求。這包括純度、晶體結(jié)構(gòu)、電學(xué)特性等方面的更嚴(yán)格或更精確的規(guī)定。

  2. 檢測(cè)方法的改進(jìn)：隨著檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展，2007版標(biāo)準(zhǔn)引入了更先進(jìn)、更準(zhǔn)確的檢測(cè)手段和分析方法，用以評(píng)估砷化鎵單晶及切割片的質(zhì)量。例如，可能采用了更精密的光譜分析技術(shù)來測(cè)量元素雜質(zhì)含量，或使用更先進(jìn)的電子顯微鏡技術(shù)來觀察晶體缺陷。

  3. 生產(chǎn)流程和質(zhì)量控制要求的加強(qiáng)：考慮到生產(chǎn)技術(shù)和工藝的進(jìn)步，新標(biāo)準(zhǔn)對(duì)砷化鎵單晶的生長(zhǎng)過程及其后的切割、加工等環(huán)節(jié)提出了更為詳細(xì)的操作規(guī)范和質(zhì)量控制要求，旨在提高產(chǎn)品的一致性和可靠性。

  4. 環(huán)保與安全要求：鑒于環(huán)境保護(hù)和安全生產(chǎn)日益受到重視，2007版標(biāo)準(zhǔn)可能新增或強(qiáng)化了關(guān)于生產(chǎn)過程中污染物排放、廢棄物處理以及操作人員健康安全防護(hù)的相關(guān)規(guī)定。

  5. 術(shù)語(yǔ)和定義的更新：為保持與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌和行業(yè)發(fā)展的同步，標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)一些專業(yè)術(shù)語(yǔ)和定義進(jìn)行了修訂或補(bǔ)充，確保了標(biāo)準(zhǔn)語(yǔ)言的準(zhǔn)確性和時(shí)代性。

  6. 標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)與表述的優(yōu)化：為了便于理解和執(zhí)行，新版標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)章節(jié)結(jié)構(gòu)進(jìn)行了調(diào)整，使內(nèi)容更加條理化，同時(shí)對(duì)文字表述進(jìn)行了精簡(jiǎn)和清晰化處理，提高了可讀性。

這些變動(dòng)體現(xiàn)了從1989年到2007年間，砷化鎵單晶材料領(lǐng)域技術(shù)進(jìn)步和標(biāo)準(zhǔn)化工作的最新成果，旨在引導(dǎo)和促進(jìn)該行業(yè)向更高水平發(fā)展。


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  • 2007-09-11 頒布
  • 2008-02-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

犐犆犛２９．０４５

犎８３

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１１０９４—２００７

代替ＧＢ／Ｔ１１０９４—１９８９

水平法砷化鎵單晶及切割片

犎狅狉犻狕狅狀狋犪犾犫狉犻犱犵犿犪狀犵狉狅狑狀犵犪犾犾犻狌犿犪狉狊犲狀犻犱犲狊犻狀犵犾犲犮狉狔狊狋犪犾犪狀犱犮狌狋狋犻狀犵狑犪犳犲狉

２００７０９１１發(fā)布２００８０２０１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜１１０９４—２００７

前言

本標(biāo)準(zhǔn)是對(duì)ＧＢ／Ｔ１１０９４—１９８９《水平法砷化鎵單晶及切割片》的修訂。

本標(biāo)準(zhǔn)與原標(biāo)準(zhǔn)相比，主要變動(dòng)如下：

———單晶生長(zhǎng)方向上增加了近幾年在生產(chǎn)中大量使用的＜１１０＞晶帶上由＜１１１＞Ｂ方向向最遠(yuǎn)的

＜１００＞Ａ方向偏轉(zhuǎn)０°～２０°生長(zhǎng)單晶，明確提出了生長(zhǎng)偏角由生產(chǎn)工藝參數(shù)決定；

———明確了晶錠作為單晶產(chǎn)品；

———切割片中取消了目前基本已被淘汰的直徑為４０ｍｍ、５０ｍｍ以及矩形和Ｄ形片的規(guī)定；

———增加了目前大量使用的直徑５０．８ｍｍ、６３．５ｍｍ切割片和國(guó)際上少量使用的直徑７６ｍｍ

切割片的規(guī)定等等。

本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日代替ＧＢ／Ｔ１１０９４—１９８９。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：北京有色金屬研究總院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：武壯文、王繼榮、張海濤、于洪國(guó)。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１１０９４—１９８９。

Ⅰ

書

犌犅／犜１１０９４—２００７

水平法砷化鎵單晶及切割片

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了水平法砷化鎵單晶、單晶錠及切割片的要求、試驗(yàn)方法及檢驗(yàn)規(guī)則等。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于水平法砷化鎵單晶、單晶錠及切割片，產(chǎn)品主要用于光電器件、微波器件和傳感元件

等的制作。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ／Ｔ１５５５半導(dǎo)體單晶晶向測(cè)定方法

ＧＢ／Ｔ２８２８．１計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第１部分：按接收質(zhì)量限（ＡＱＬ）檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

ＧＢ／Ｔ４３２６非本征半導(dǎo)體單晶霍爾遷移率和霍爾系數(shù)測(cè)量方法

ＧＢ／Ｔ８７６０砷化鎵單晶位錯(cuò)密度的測(cè)量方法

ＧＢ／Ｔ１４２６４半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)

ＧＪＢ１９２７砷化鎵單晶材料測(cè)試方法

３術(shù)語(yǔ)、定義

ＧＢ／Ｔ１４２６４確立的以及下列術(shù)語(yǔ)和標(biāo)準(zhǔn)適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

３．１

水平法犺狅狉犻狕狅狀狋犪犾犫狉犻犱犵犿犪狀犵狉狅狑狀

本標(biāo)準(zhǔn)中特指水平布里奇曼法，簡(jiǎn)寫為：ＨＢ。

３．２

單晶狊犻狀犵犾犲犮狉狔狊狋犪犾

本標(biāo)準(zhǔn)中出現(xiàn)的單晶專指水平布里奇曼法砷化鎵單晶。

３．３

晶錠犻狀犵狅狋

本標(biāo)準(zhǔn)中出現(xiàn)的晶錠專指水平布里奇曼法砷化鎵單晶晶錠。

３．４

晶片狑犪犳犲狉

本標(biāo)準(zhǔn)中出現(xiàn)的晶片專指水平布里奇曼法砷化鎵

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